干法刻蚀设备NLD-5700 用于光器件和MEMS的NLD-5700干法刻蚀系统是配备磁中性线等离子体(NLD)源的用于大规模生产的干法刻蚀系统。 (采用磁中性线等离子体(NLD)的低压、低电子温度、高密度等离子体的干式蚀刻设备,由ULVAC原创开发。) 特征 通过在洁净室内工作,洁净室可以扩展到两个房间(NLD、磁场ICP、CCP和灰化室)。
刻蚀设备:NLD-5700对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的量产用干法刻蚀装置。(此爱发科独创的NLD技术设备可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子)具体购买政策请致电:0512-86669111-8150 李女士13913550251(沈先生) ...
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工艺:刻蚀 工艺介绍:干法刻蚀设备 设备:NE 系列;NLD 系列 型号:NLD-5700 代表器件/工艺制程:SiC沟槽刻蚀、GaN沟槽刻蚀、压电MEMS的PZT薄膜刻蚀、GaN-HEMT结构中的Gate形成 所属分类 半导体制造设备 联系我们 对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的...
量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备。 产品特性 / Product characteristics 除单腔之外,另可搭载有磁场ICP(ISM)或NLD等离子源、去胶腔体、CCP腔体等对应多种刻蚀工艺。 为实现制程再现性及安定性搭载了星型电极及各种调温技能。
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