产品名称 美国Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000 产地 美国 占地面积 30"D x 26"W 圆片尺寸 2"直径的圆片 可售卖地 全国 型号 SWC-4000 美国Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000 特点:。支持12"直径的圆片或9"x9"方片。独立系统。无损兆声,试剂,毛刷清洗及旋转甩干。微处理机自动控制。化学试剂滴胶...
深圳市科时达电子科技有限公司供应美国Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000 单晶圆及掩模版清洗设备 产品关键词:nano清洗;清洗机兆声;晶圆nano;晶圆清洗设备美国;晶圆master;swc清洗供应产品,
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型号:SWC-4000 加工定制:是 兆声清洗/湿法刻蚀系统NANO MASTER(那诺-马斯特)最先进的兆声无损处理设备,主要包含SWC单晶圆/掩模版清洗系列和LSC
美Nano-master热蒸镀系统:NTE-4000 独立式电子束蒸镀,NTE-3500 紧凑型独立式热蒸镀,NTE-3000 双蒸源台式热蒸镀系统,NTE-1000 简便型热蒸镀。热蒸镀系统可以跟NANO-MASTER那诺-马斯特的其它任意真空系统组成双系统。 详细介绍 美Nano-master热蒸镀系统: ...
NRT-4000 独立式大批量RTP系统 NANO-MASTER的NRT-4000型独立式RTP快速褪火炉,可支持硅片、GaN、GaAs等晶圆的快速煺火,具有精确的温度/时间控制能力。该RTP系统可支持单片自动Load Lock,或者带25片Cassette的单片工艺,可兼容处理4”和6”晶圆片。也可以有一次处理6-7片6”晶圆的批处理版本。占地面积仅为26”x44...
SWC系列清洗系统 可选型号: SWC-3000 标准台式 兆声清洗,N2旋干 SWC-3000-C CDU台式 兆声清洗,N2旋干,带化学试剂分配功能 SWC-3000-M 掩膜板台式 兆声清洗(3MHz),N2旋干或者红外灯烘干 SWC-4000 标准立式 兆声清洗,热N2旋干化学配比,酸和溶剂分别独立排放 ...
SWC-3000 台式单晶圆/掩膜版清洗系统 SWC-4000 立柜式单晶圆/掩膜版清洗系统 SWC-5000 带25片Cassette 机械手自动清洗NANO-MASTER单晶圆清洗机(SWC)聚焦于提供大可能性的清洗能力,同时维持可承担的拥有成本。标准系统配套有各种清洗能力,化学试剂清洗、刷子清洗、高转速旋转甩干带红外灯烘干和N2吹扫。 利技术的兆声喷...
SWC-4000型CMP后清洗机是美国NANO MASTER公司开发的一款科研级的高端清洗系统,用于去除晶圆在CMP工艺后晶圆表面污染物、残留物、或微尘颗粒等。该系统集成了美国NANO MASTER公司无损DI水兆声清洗专利技术,配合四路的化学试剂清洗,PVA刷洗以及带异丙醇的高速甩干等清洗模块,对于单片清洗而言具有顶级的基底清洗能力,是科研...
那诺-马斯特/Nano-Master 型号LSC-4000 (D) 中文简称LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统 英文简称LSC-4000 (D) 产地美国 上市时间2011年SWC-4000 (C) 兆声清洗系统 咨询 那诺-马斯特/Nano-Master 型号SWC-4000 (C) 中文简称SWC-4000 (C) 兆声清洗系统 英文简称SWC-4000 (C) 产地美国 上市时间...