型号 SWC-4000 美国Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000 特点:。支持12"直径的圆片或9"x9"方片。独立系统。无损兆声,试剂,毛刷清洗及旋转甩干。微处理机自动控制。化学试剂滴胶单元。溶剂与酸分离排废。热氮。30"D x 26"W 的占地面积SWC-4000兆声晶圆清洗机应用:。带图案或不带图案的掩模版和晶圆片。Ge,...
SWC-4000兆声掩模板清洗机概述: 技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得zui干净的晶圆片和掩模版。 NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤...
SWC-4000-硅片/掩膜版清洗机 2024-09-18 产地: 美国 所在地区: 北京北京市 有效期还剩136天举报该信息 产品详细 表面颗粒的去除可以调整化学试剂的配方成分,使得衬底表面存在zui少量的颗粒。化学配比系统设计了zui小的化学试剂的消耗,它提供了程序化的混合方式使化学试剂在衬底表面*均匀的分布。这个设计也提供了精确...
SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机 更多供应商 那诺-马斯特中国有限公司 联系电话: 021-62318025 产品介绍: 中文名称:SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机 包装信息:台 最新发布供应信息 SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机询价那诺-马斯特中国有限公司2024/10/14 ...
晶圆清洗设备 SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机 中文别名: 晶圆清洗设备 SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机 CBNumber: CB112146142 分子式: 分子量: 0 MOL File: Mol file 化学性质安全信息用途供应商1 晶圆清洗设备 SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机化学性质 ...
型号:SWC-4000 供应商信息 廖敬强 地址: 中国 广东 深圳 沙井共和工业区新和大道金山大厦7楼 公司主页://lanxingyu.cn.makepolo.com 查看更多 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 进入公司首页 蓝星宇科技专业研发设计组装:紫外臭氧清洗机(UV清洗机),准分子清洗机,等离子清洗机等仪器设备。引进日本,德国,韩国先进技术,设...
美国Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000 单晶圆及掩模版清洗设备 深圳市科时达电子科技有限公司 3年 查看详情 ￥1.00/台 广东深圳 美Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 2年 “swc-4000兆声掩模板清洗机”的结果有点少,为您展示“清洗机”的结果,您也可直接去问我~ 去提问 ...
产品名称: 美国Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000 产地: 美国 占地面积: 30"D x 26"W 圆片尺寸: 2"直径的圆片 价格说明 价格:商品在平台的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的结算价格为...
SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版。 NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤...
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