SWC-4000兆声掩模板清洗机概述: 技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得zui干净的晶圆片和掩模版。 NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤...
型号 SWC-4000 美国Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000 特点:。支持12"直径的圆片或9"x9"方片。独立系统。无损兆声,试剂,毛刷清洗及旋转甩干。微处理机自动控制。化学试剂滴胶单元。溶剂与酸分离排废。热氮。30"D x 26"W 的占地面积SWC-4000兆声晶圆清洗机应用:。带图案或不带图案的掩模版和晶圆片。Ge,...
SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机 更多供应商 那诺-马斯特中国有限公司 联系电话: 021-62318025 产品介绍: 中文名称:SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机 包装信息:台 最新发布供应信息 SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机询价那诺-马斯特中国有限公司2024/11/15 ...
SWC-4000-硅片/掩膜版清洗机 2024-09-18 产地: 美国 所在地区: 北京北京市 有效期还剩121天举报该信息 产品详细 表面颗粒的去除可以调整化学试剂的配方成分,使得衬底表面存在zui少量的颗粒。化学配比系统设计了zui小的化学试剂的消耗,它提供了程序化的混合方式使化学试剂在衬底表面*均匀的分布。这个设计也提供了...
晶圆清洗设备 SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机 CAS号: 英文名: Wafer cleaning equipment SWC-4000 Megasonic wafer (mask) cleaning machine 英文别名: Wafer cleaning equipment SWC-4000 Megasonic wafer (mask) cleaning machine 中文名: 晶圆清洗设备 SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机 ...
产品名称: 美国Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000 产地: 美国 占地面积: 30"D x 26"W 圆片尺寸: 2"直径的圆片 价格说明 价格:商品在平台的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的结算价格为...
SHIMANO禧玛诺黑曜全金属纺车轮无间隙路亚鱼轮微物双摇臂路 SWC4000 ... 已选 SWC4000 单摇臂 黑曜(深杯),1个 送至 北京朝阳区三环到四环之间 评价 *** 商品介绍 售后保障 包装清单 商品参数 服务承诺 京东商城向您保证所售商品均为正品行货,京东自营商品开具机打发票或电子发票。凭质保证书及京...
SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版。 NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤...
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