型号 SWC-4000 美国Nano-master兆声晶圆清洗机SWC-4000 特点:。支持12"直径的圆片或9"x9"方片。独立系统。无损兆声,试剂,毛刷清洗及旋转甩干。微处理机自动控制。化学试剂滴胶单元。溶剂与酸分离排废。热氮。30"D x 26"W 的占地面积SWC-4000兆声晶圆清洗机应用:。带图案或不带图案的掩模版和
SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机 更多供应商 那诺-马斯特中国有限公司 联系电话: 021-62318025 产品介绍: 中文名称:SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机 包装信息:台 最新发布供应信息 SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机询价那诺-马斯特中国有限公司2025/05/30 ...
SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版。 NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤...
SWC-4000兆声掩模板清洗机概述: 技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得zui干净的晶圆片和掩模版。 NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤...
SWC-4000-硅片/掩膜版清洗机 2025-03-19 产地: 美国 所在地区: 北京北京市 有效期还剩113天举报该信息 产品详细 表面颗粒的去除可以调整化学试剂的配方成分,使得衬底表面存在zui少量的颗粒。化学配比系统设计了zui小的化学试剂的消耗,它提供了程序化的混合方式使化学试剂在衬底表面*均匀的分布。这个设计也提供了精确...
SWC-4000兆声晶圆清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及Z的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了利的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。 SWC-4000兆声晶圆清洗机应用: 。带图案或不带图案的掩模版和晶圆片。Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗。CMP处理后的晶圆片清...
SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版。 NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片,包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤...
型号:SWC-4000 产品名称:SWC-4000兆声晶圆清洗机产品特点:SWC-4000兆声晶圆清洗机:Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及Z先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了专利的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。SWC-4000兆声晶圆清洗机应用:· 带图案或不带图案的掩模...
SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机 中文别名: SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机 CBNumber: CB611557946 分子式: 分子量: 0 MOL File: Mol file 化学性质安全信息用途供应商1 SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机化学性质 安全信息 SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机性质、用途与生产工艺 ...
价格:￥电议 更新日期:2025/1/6 16:24:45 生产地: 产品型号:SWC-4000 (D) 简单介绍:*新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了*新的水平,可以帮助用户获得*干净的晶圆片和掩模版。相关标签:SWC-4000 (D) 兆声湿法去胶系统 ...