MPCVD单晶金刚石高速率高品质微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术被认为是制备大尺寸高品质单晶金刚石的理想手段之一.然而其较低的生长速率(~10μm/h)以及较高的缺陷密度(103~107 cm-2)是阻碍MPCVD单晶金刚石应用的主要因素,经过国内外研究团队数十年的不懈努力,在高速率生长和高品质生长两个方面都取得了众多成...
摘要:微波等离子体化学气相沉积(ＭＰＣＶＤ)技术被认为是制备大尺寸高品质单晶金刚石的理想手段之一ꎮ然而其较低的生长速率(~１０μｍ/ｈ)以及较高的缺陷密度(１０３~１０７ｃｍ－２)是阻碍ＭＰＣＶＤ单晶金刚石应用的主要因素ꎬ经过国内外研究团队数十年的不懈努力ꎬ在高速率生长和高品质生长两个方面都取得了...