mcvd工艺流程 MCVD工艺流程是光纤预制棒制造中广泛采用的一种方法,本质是通过在石英管内部沉积材料形成光纤芯层结构,整个过程大致分为材料准备、沉积、烧结等阶段。整个流程需要精确控制气体流量、温度、旋转速度等参数,确保材料均匀沉积与结构稳定。 材料准备阶段主要涉及高纯度化学原料,通常使用四氯化硅、四氯化锗作为...
MCVD工艺技术的主要步骤包括光纤外壳预先制备、预咨人气氛控制和杂质沉积、中心芯的合成、烧结等。首先,在光纤外壳制备前,需要用合适的材料制备内部偏-核外-埋内凸的液滴,形成预先制备好的光纤外壳。接下来,在进一步的步骤中,将光纤外壳放置于合适的温度下,在氩气的保护下开始加热。在增加了乙炔和硅醇的反应温度下...
MCVD,全称为Modified Chemical Vapor Deposition(改进的化学气相沉积法),是一种先进的制造工艺技术,主要应用于光纤和半导体的生产。该技术利用高温下的化学反应,将特定的气体或蒸汽在基材表面沉积成固体薄膜,从而改变材料的光学、电学或热学性能。 二、MCVD在光纤制造中的应用...
本文介绍了MCVD系统的最新改进,即使用相对较低的蒸汽压来生产掺镱和掺铝二氧化硅制棒。 1. 实验 掺镱二氧化硅预制棒是利用 MCVD 工艺制备的,该工艺采用的系统可在气相中提供镱和铝化合物。图1(a) 显示了我们实验室用于制备掺镱二氧化硅预制棒的 MCVD 工艺示意图。我们使用一种名为Yb(DPM)3 的有机掺镱化合物...
MCVD工艺的物流方向 MCVD工艺从基管的一头由氧气作为载气将待反应的原料载带进基管,而在基管的外面用氢氧焰加热到19000C以上,间接加热基管内的反应原料,生成的玻璃体,沉积在基管的内壁。 没有沉积下来的玻璃体,由工艺气体载带,经由尾部的较大直径的灰粒收集管(俗称尾管),进入灰粒收集箱,甚至部分被直接抽吸到...
MCVD工艺的物流方向 •MCVD工艺从基管的一头由氧气作为载气将待反应的原料载带进基管，而在基管的外面用氢氧焰加热到19000C以上，间接加热基管内的反应原料，生成的玻璃体，沉积在基管的内壁。•没有沉积下来的玻璃体，由工艺气体载带，经由尾部的较大直径的灰粒收集管（俗称尾管），进入灰粒收集箱，甚至部分...
MCVD工艺的物流方向 •MCVD工艺从基管的一头由氧气作为载气将待反应的原料载带进基管，而在基管的外面用氢氧焰加热到19000C以上，间接加热基管内的反应原料，生成的玻璃体，沉积在基管的内壁。•没有沉积下来的玻璃体，由工艺气体载带，经由尾部的较大直径的灰粒收集管（俗称尾管），进入灰粒收集箱，甚至部分...
HeCoredepositionPurpose:depositionofrefractiveindexdifferenceTemperature:1900-2200oCTypicalreactantflows:SiCl4,GeCl4,O2,HeMCVD工艺反响机理SiCl4+O2=SiO2+2Cl2GeCl4+O2=GeO2+2Cl24POCl3+3O2=2P2O5+6Cl24BCl3+3O2=2B2O3+6Cl2热泳效应热泳现象是指在温度梯度不为零的气体或悬浮体中,粒子向较冷区域运动的...
MCVD 泛林 lam 工作职责:1.参与可维护性设计,参加产品设计评审,从产品使用维护角度,提出可操作性、可靠性、可维护性要求;2.参与未发布产品验证,研发项目产品组装调试,研发项目产品使用测试;3.已发布产品重点问题优化改进,产品综合评估。定期分析总结产品使用和维护中的问题,对设计缺陷、产品优化等做综合评估,提交产...
mcvd工艺制备光纤(制造工艺)(ppt).ppt,MCVD工艺关键技术 光纤的四大制造技术 VAD(轴向汽相沉积) OVD (外部汽相沉积) MCVD(改进的化学汽相沉积) PCVD(等离子体化学汽相沉积) MCVD工艺简介 MCVD工艺步骤1——Recipe Development Main variables for each process step