LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)和PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)都是化学气相沉积(CVD)技术的重要分支,它们在工业领域,尤其是在半导体和光伏产业中,有着广泛的应用。以下是这两种工艺的主要区别: 一、工作原理 LPCVD:全称为低压力化学气相沉积法,其设计原理是将反应气体在反应器内进行...