近年来,中国在KrF和ArF高纯度光刻胶领域取得了显著进展,这得益于政府的大力支持和本土芯片制造商的持续需求。🔬 光刻胶按曝光波长可分为宽带紫外(300-450nm)、g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)、EUV(13.5nm)和电子束类型。KrF、ArF和EUV光刻胶因其高纯度和先进技术,在全球市场上占据主导...
12月9日晚间，鼎龙股份(300054)发布公司浸没式ArF及KrF晶圆光刻胶产品首获客户订单的公告。据披露，公司控股子公司——鼎龙（潜江）新材料有限公司生产的某款浸没式ArF晶圆光刻胶及某款KrF晶圆光刻胶产品前后顺利通过客户验证，并于近期分别收到共两家国内主流晶圆厂客户的订单，合计采购金额超百万元人民币。鼎龙股份...
光刻胶根据曝光波长的不同分为多种类型，其中KrF（248nm）、ArF（193nm）和EUV（13.5nm）光刻胶是制造高端制程芯片（如7nm及以下制程）的必需材料。这些高纯度光刻胶的生产涉及复杂的化学合成和材料优化，尤其是对于极紫外（EUV）光刻的应用，其技术门槛非常高。目前，全球的光刻胶市场由日本和美国的几家巨头主...
#威迈芯材是全球排名前6、国内唯一量产KrF/ArFPAG光刻胶公司:估值或超百亿。作为国内KrF、ArF用PAG唯一量产供应企业,打破外国技术垄断,同时实现了中国光刻胶产品向日韩供应的突破。去年底迈威芯材已完成数亿融资,上市估值有望百亿+。 2?#威迈芯材实际控制人为亚禾资本创始人张凌,与亚威股份关系密切。亚威股份直接...
格隆汇1月20日丨鼎龙股份(300054.SZ)在投资者互动平台表示，公司生产KrF、ArF光刻胶成品，同时开发出 KrF、ArF 光刻胶专用树脂及其高纯度单体、光致产酸剂等关键材料，实现从关键材料到光刻胶产品自主可控的全流程国产化，符合下游客户产业链供应链安全自主可控的需求。目前，公司已成功开发多款KrF/ArF光刻胶产品，...
而在ArF这种用于130nm-14nm芯片光刻胶上，国产的自给率约为1%，99%需要进口。不过近日有媒体报道称，国产的ArF光刻胶已经有突破了，南大光电已经开发了多款ArF光刻胶在下游客户处验证，制程覆盖28nm~90nm，这算是巨大的惊喜了。而用于250nm-130nm工艺的KrF光刻胶，国产自给率约为5%，也就是说还有95%要进口...
ArF光刻胶是一种用于12英寸大硅片的高端半导体光刻胶，是第四代光刻胶产品。ArF光刻胶在半导体光刻胶领域具有极高的技术壁垒，全球能够量产的企业数量有限。KrF光刻胶与ArF光刻胶在半导体制造中都有广泛应用，但两者之间存在显著差异。KrF光刻胶的光源波长为248nm，而ArF光刻胶的波长为193nm。ArF光...
光刻胶是一种光敏性的混合液体,主要用途是将掩膜版上的图像转印至硅芯片中,是光刻工艺中最主要的、最关键的材料。 半导体光刻胶根据波长可进一步分为G线光刻胶(436nm)、I线光刻胶(365nm)、KrF光刻胶(248nm)、ArF光刻胶(193nm)、EUV光刻胶(13.5nm)等。半导体用光刻胶随着曝光波长的缩短,分辨率逐渐提升,...
ArF光刻胶主要用于DUV光刻工艺，可用于130-14nm芯片工艺制程，其中干法主要用于130-65nm工艺，浸没式主要用于65-14nm工艺。需求向高端光刻胶转移，KrF、ArF半导体光刻胶为短期竞争焦点。摩尔定律趋近极限，半导体制造制程进步使得所对应的光刻加工特征尺寸（CD）不断缩小。配套光刻胶转移方向：“G线(436nm)→I线(365...
12月9日晚间,鼎龙股份(300054.SZ)公告,控股子公司--鼎龙(潜江)新材料生产的某款浸没式ArF晶圆光刻胶及某款KrF晶圆光刻胶产品前后顺利通过客户验证,并于近期分别收到共两家国内主流晶圆厂客户的订单,合计采购金额超百万元。 作为各类核心“卡脖子”进口替代类创新材料的平台型公司,公司已布局20余款高端晶圆光刻胶,...