湖北鼎龙是中国光刻胶产业中的一颗新星。该公司最近宣布，其ArF和KrF光刻胶已通过客户评估，并成功获得来自国内晶圆厂的订单，金额超过137万美元。这一成果标志着中国在高端光刻胶领域的重要突破，表明国内企业有能力通过创新工艺（如定制单体和树脂结构、改进纯化和混合工艺）实现光刻胶的完全国产化。鼎龙的成功案例不...
(2) ArF、KrF光刻胶 到了90年代末,半导体制程工艺发展到350mm以下,g线和i线光刻胶已经无法满足这样的需求了,于是出现了适用于248nm波长光源的KrF光刻胶和193nm波长光源的ArF光刻胶。它们都属于深紫外光刻胶,和g线、i线有质的区别。 随后的20年里,ArF光刻胶一直是半导体制程领域性能最可靠、使用最广泛的光...
以光刻胶的自给率为例，低端的g线/i线光刻胶自给率仅为20%，而KrF光刻胶的自给率则不足5%。在高端的ArF光刻胶领域，近两年才有所突破，例如彤程新材和南大光电的ArF光刻胶产品已经开始对外供货。然而，更高端的EUV光刻胶由于受到美国政策的限制，国内目前无法进口EUV光刻机，从而导致国产EUV光刻胶的开发仍...
就像文章开头所提到的，目前全球光刻胶市场是由几家日本企业垄断的。日本企业在g线/i线、KrF、ArF和EUV光刻胶市场中，市占率分别为61%、80%、93%和100%。也就是说，全球近75%的光刻胶市场份额均由日本企业把持。（一）EUV光刻胶市场 EUV光刻胶是芯片制造中，用于最新且最先进的EUV光刻工艺的材料。这种光刻...
目前半导体用光刻胶,主要分为5个种类:g线光刻胶,i线光刻胶,KrF光刻胶,ArF光刻胶和EUV光刻胶。 ArF、KrF光刻胶 到了90年代末,半导体制程工艺发展到350mm以下,g线和i线光刻胶已经无法满足这样的需求了,于是出现了适用于248nm波长光源的KrF光刻胶和193nm波长光源的ArF光刻胶。它们都属于深紫外光刻胶,和g...
目前在EUV光刻胶上，中国自给率为0，而在ArF光刻胶上，国产的自给率约为1%。在KrF光刻胶上，国产自给率约为5%。可见，目前我国在光刻胶生产方面仍然存在较大的进口依赖。有消息称，目前中国光刻胶市场低端化现象明显，各种低端光刻胶产品价格战激烈，而高端市场一直被日本企业所垄断。国产ArF光刻胶的突破 南...
据披露，公司控股子公司——鼎龙（潜江）新材料有限公司生产的某款浸没式ArF晶圆光刻胶及某款KrF晶圆光刻胶产品前后顺利通过客户验证，并于近期分别收到共两家国内主流晶圆厂客户的订单，合计采购金额超百万元人民币。鼎龙股份表示，本次首获的高端晶圆光刻胶订单，是继公司在显示面板光刻胶和先进封装光刻胶依次导入...
武汉太紫薇的T150A光刻胶能够覆盖部分DUV光刻工艺的应用场景。其全配方自主研发的成果，对于推动国产半导体光刻制造的发展具有重要意义。当然，光刻胶的突破并非仅限于武汉太紫薇，南大光电在这方面也取得了显著进展。据南大光电2024年4月11日与投资者的互动信息，该公司已成功量产并销售了三款ArF光刻胶。由此，...
然而，近日有媒体报道称，南京大学光电科学与工程学院已经开发出多款ArF光刻胶，并在下游客户处进行了验证，覆盖了28纳米到90纳米的制程。这无疑是一个巨大的突破。对于250纳米到130纳米工艺的KrF光刻胶，中国的自给率约为5%，还有95%的需求需要进口。不过，我们并不需要过于担心这一点，因为我们的问题并不在于...
晶瑞电材：拥有紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF全系列光刻胶机及配套测试实验设备，研发潜力和量产能力最具实力的国内供应商 金融界9月10日消息，有投资者在互动平台向晶瑞电材提问：万一日本或其它国家对我们封锁，公司能否在光刻胶领域进口替代吗？公司的产能可以满足国内需要吗？公司回答表示：公司作为国内半导体...