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国内早期与全球的光刻机水平相差并不是特别大,像G线、I线国内都有,KrF国内也有,目前的水平是ArF光刻机,但在ArFi上就停止不前了,因为美国对技术、元件等进行了封锁。目前上海微电子的光刻机,采用的就是193nm波长光源的DUV光刻机,但是介质是空气。下一步理论上要实现浸润式光刻机,即虽然还是193nm波长的...
一款是KrF氟化氪光刻机,另一个是ArF氟化氩光刻机。 这两者均属于DUV光刻机,并且属于中端二代光刻机,尽管不是高端机,但由于通过多重曝光也能实现28nm,成为了需求端最大的地方,目前二代光刻机依然占据超过一半的销量份额。 此次两款国产光刻机进入了技术推广,一方面说明二代国产光刻机技术方面,已经实现了全产业...
i线、g线、KrF、ArF和EUV光刻机光源的波长分别为365nm、436nm、248nm、193nm、13.5nm。 氟化氩光刻机也就是深紫外光刻机,其光源波长193纳米,套刻精度小于8纳米,可用于制造7纳米以上的芯片,真的是太不容易了...
两款光刻机分别是氟化氪(KrF)光刻机和氟化氩(ArF)光刻机。 在A股市场上,与光刻机相关的产业链公司包括: 1. 上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE):是国内光刻机领域的重点企业,拥有SSX600系列光刻机,代表了国内顶尖水平,技术节点为90nm。张江高科通过全资子公司张江浩成创业投资有限公司持有上海微电子10.77...
集微网消息12月15日,据晶瑞电材发布调研信息表示,公司目前已经到位的光刻机总计有5台,其中KrF光刻胶量产线正在建设中,而ArF光刻胶研发工作正积极进行中。据晶瑞电材表示:“公司近期已购得KrF光刻机一台,可用于KrF光刻胶的曝光测试,同时公司KrF光刻胶量产化生产线正在积极建设中。此前,公司已经购得用于...
炬光科技:目前公司产品已用于KrF、ArF、ArF浸没式等DUV光刻机 炬光科技9月18日在互动平台表示,公司的光场匀化器产品供应给世界顶级光学企业A公司,最终应用于全球高端光刻机生产商的核心设备。公司根据客户的不同型号需求,匹配不同波长的光场匀化器,目前产品已经用于KrF,ArF,ArF浸没式等DUV光刻机。公司光场匀...
ArF 光刻机: ArF 光刻技术全称为 ArgonFluorideExcimerLaserLithography。光源方面ArF 光刻机采用波长更短的 193nm 的深紫外线光源,即氢氟准分子激光,比 KrF 光刻机更加先进。ArF 光刻机有两种类型,分别是 ArFimmersio(浸没式 DUV)和 ArFdry(千式 DUV)。ArFimmersio 采用液体浸没技术,在曝光过程中,将掩模和硅...
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