1. Degueldre, C. and P.Y. Favarger, Colloid analysis by single particle inductively coupled plasma-mass spectroscopy: a feasibility study. Colloids Surf., A, 2003. 217(1-3): p. 137-142.2. Praetorius, A., et al., Single-particle multi-element fingerprinting (spMEF) using inductively-...
1. 我想可能是仪器自动保护控制的吧 2. 正常熄火时不应该停 从analysis 到 stand by 机械泵和涡轮泵是不会停的 3. 真空系统需要维护了 4. 可能是滑动阀关闭时动作太慢而引起的, 或是哪里漏气, 我们曾经出现过, 在厂家工程师电话指导下自己...
Lisa M. Mey-Ami 博士是液化空气集团旗下巴莱斯（Balazs NanoAnalysis）公司的资深科学家。她擅长使用 ICP-MS 针对先进半导体材料中痕量元素和单纳米颗粒进行分析。前言 纳米颗粒被定义为在纳米尺度（1~100nm）范围内的超细颗粒物。天然存在的纳米颗粒在半导体制造工艺的各个方面均以污染物形式存在，因此被及时表征变...
1 Tian et al., Simultaneous multi-element and multi-isotope detection in single-particle ICP-MS analysis: Principles and applications, TrAC Trends in Analytical Chemistry, Volume 157, 2022, 116746https://doi.org/10.1016/j.trac.2022.1167462 Tian et al., Exploring the performance of quadrupole,...
2、正常熄火时不应该停，从analysis 到 stand by 机械泵和涡轮泵是不会停的！3、真空系统需要维护了！4、可能是滑动阀关闭时动作太慢而引起的, 或是哪里漏气, 我们曾经出现过, 在厂家工程师电话指导下自己弄好了！5、应该清洗真空锥了！问 我用的是安捷伦的，为什么用AUTO TUNE调机总不能得到好的效果?答 1...
·376 · 中华放射医学与防护杂志2017年5月第37卷第5期 Chin J Radiol Med Prot,May2017,Vol. 37,No. 5 ·放射卫生· 235 238 ICP⁃MS法分析尿中总铀和 U/ U 比值 及其不确定度评价 尹亮亮 田青 黄微 邵宪章 吉艳琴 100088 北京,中国疾病预防控制中心辐射防护与核安全医学所 辐射防护与核应急中 国...
1、选择File菜单点击OpenAnalysisFile命令打开数据Batch调出数据。 2、点中样品编号序列窗口上端,点右键,选择“specify process order”窗口,将标准空白及标样前运行的样品移到标样后,点击ok然后process序列。 3、选择DA Method点击Edit命令进入数据分析方法编辑器。在页面左侧diyi列Method Development Tasks中选择set up ba...
相关研究成果发表于国际光谱学专业期刊《Atomic Spectroscopy》(LA-ICP-MS Imaging Analysis of Gem-quality Tourmaline: A Novel Method for Direct Identification of Chromophore in Gemstone Samples. Atomic Spectroscopy, 2023, 44(1): 1-7.)上,罗涛副研...
Applying ICP-MS to Speciation and Quantitative Analysis of Arsenic in Foodstuffs and Beverages Accelerate your throughput and be more productive with state-of-the-art ICP-MS instruments Speciation Customer Testimonial Espresso Cup 博客文章 采用IC-ICP-MS 进行形态分析:找出致命毒性元素 ...
2.正常熄火时不会停,从analysis到stand by之间机械泵和涡轮泵也是不会停的; 3.真空系统需要维护; 4.可能是滑动阀关闭时动作太慢而引起的,或是哪里漏气引起的; 5.应该清洗真空锥。 二、ICP-MS中谈到的Plasmalok™专利技术,消除锥口二次电弧放电是怎么样的?