半導体製造工程で使用される材料では、深さ方向の濃度分布が汚染の原因や範囲を推察する上でとても重要な指標の一つとなります。一方で、GD-OESやSIMSに代表される深さ方向分析装置では、感度が不足するといった問題や、測定エリアが小さいため代表性に欠けるという課題があります。これらの...