光刻机经历了5代产品发展,按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影光刻机和极紫外式光刻机。 光源是光刻机的核心构成之一,其波长决定了光刻机的工艺能力。光刻机根据光源不同可分成紫外(UV)光刻机、深紫外(DUV)光刻机、极紫外(EUV)光刻...
【通过定制产品绕过出口管制,日企要开拓中国光刻机市场?】据《日本经济新闻》近日报道,日企尼康计划2024年面向市场推出光刻机新品,使用上世纪90年代初的“i-line”老一代光源技术,来绕开日本对先进半导体进行的出口管制。报道称,这是尼康时隔25年后第一次推出新产品。为拯救经营颓势,日本光刻机企业打算定制产品,绕...