'Iline'一词,在科技领域中,通常指的是iline光刻机,这是一种采用先进激光干涉技术的高精度、高效率光刻设备。光刻机是半导体制造中的关键设备,用于在硅片上刻制出微细的电路图案,而iline光刻机以其独特的技术特点,在集成电路制造、光电子器件制造以及MEMS(微机电系统)制造等领域中发挥着重要作...
通过采用iline光刻机，微电子制造商可以实现高精度、高效率的制造过程，提高产品性能和市场竞争力。2. 光电子领域除了微电子领域外，iline光刻机在光电子领域也具有广泛的应用。在光通信、光传感、光显示等领域中，光刻技术是实现光电器件微小结构的重要手段。通过采用iline光刻机，光电子制造商可以实现高精度、高...
尼康公司作为光刻技术的领导者,一直在努力提高光刻机的性能和精度,以满足日益严苛的制造要求。 此次推出的NSR-2205iL1光刻机,采用了最新的i-line步进式技术,相比第一代光刻机,其尺寸缩小了5倍,同时保持了极高的分辨率和生产效率。这意味着用户可以在更小的空间内实现更多的生产任务,从而降低成本并提高生产效率。
尼康Nikon i-line(365 nm 波长)光刻机NSR-4425i,解析度≤700nm,视场大小44*44mm,对准精度≤100nm。 本机的二次翻新改造针对于6英寸十字线系统,八英寸晶圆。光刻胶的膜厚度应为1.20µm,产能每小时100wph。
第一二代光刻机均为接触接近式光刻机，曝光方式为接触接近式，G线（G-line）光刻机，使用的是436nm波长的光源。而I线（I-line）使用的是365nm波长的光源，这两种光刻机，也叫做紫外光刻机。而第三代升级为投影式光刻机，利用光学透镜可以聚集衍射光提高成像质量将曝光方式升级为光学投影式光刻，以扫描的方式...
8月31日消息,尼康公司通过官网发布公告称,将推出型号为“NSR-2205iL1”的5倍缩小的 i-line 步进式光刻机,该产品将用于制造电力和通信半导体以及 MEMS 等各种器件。与现有的尼康 i-line曝光系统相比,NSR-2205iL1 具有出色的经济性,无论晶圆材料如何,都可以优化各种半导体器件的生产。预计将于2024 年夏季上市销售...
其主要技术特点包括：1. 高分辨率：iline光刻机具备极高的分辨率，能够实现纳米级别的图形加工，满足高精度半导体器件的制造需求。2. 高效率：通过优化光路设计和控制系统，iline光刻机实现了高速、稳定的光刻过程，提高了生产效率。3. 灵活性：iline光刻机支持多种光源和曝光方式，可根据不同的工艺需求进行灵活配置...
尼康的这款i-line光刻机NSR 2205i12D是最受欢迎的光刻系统之一。分辨率≦350 nm，曝光光源i-line（365nm波长），缩小比1:5，曝光场22mm*22mm至17.9(H)*25.2(V)mm(6-inch reticle), 20.0*20.4mm(5-inch reticle), 对准精度 (EGA,|M|+3σ)≦55nm。NIKON NSR 2205i12D是步进器和扫描仪系统，可...
这个专利概述中不是说了嘛,紫外窄光谱,这个说的是激发光源是NUV谱400-300nm的汞灯光源,也就是i-line 对应365nm波长光源线。但是这个按国内的镜头只能做到200nm精度。 国内现在拿出成品销售的上海微电子SEEE,可做IC前道加工的600系列光刻机。i-line汞灯光源,只能加工200nm, ...