解析：PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition) ，即等离子体增强化学气相淀积 。LPCVD(low pressure chemical vapor deposition)，即低压化学气相淀积。HDPCVD（high-density plasma chemical vapor deposition），即高密度等离子体化学气相淀积。APCVD（atmospheric pressure CVD），即常压化学气相淀积。
百度试题 题目APCVD、LPCVD、PECVD和HDPCVD中文名称分别是?相关知识点: 试题来源: 解析 常压化学气相淀积、低压化学气相淀积、等离子增强化学气相淀积和高密度等离子体化学气相淀积 反馈 收藏
百度试题 题目[问答题,简答题] APCVD、LPCVD、PECVD和HDPCVD中文名称分别是?相关知识点: 试题来源: 解析 常压化学气相淀积、低压化学气相淀积、等离子增强化学气相淀积和高密度等离子体化学气相淀积 反馈 收藏
艺术欣赏中的习惯性和变异性，每个人在程度上并不完全一致，归纳起来大致可分为三种类型： 其一是，只求适合个人长期形成的欣赏习惯，对作品的变异性要求甚少；变异稍多，则遭到他们的反对。这类欣赏主体，往往是（）。 其二，欣赏作品趣味的习惯性要求，与期望作品有变化有新意的要求并存。这一类的受众，大多处于（...
在真空高温条件下将两种以上气态或液态反应剂蒸汽引入反应室,在晶圆表面发生化学反应,形成一种新的材料并沉积。目前CVD市场占比最高且仍在不断迭代。根据反应条件(压强、前驱体)的不同又分为常压CVD(APCVD)、低压CVD(LPCVD)、等离子体增强CVD(PECVD)、高密度等离子体CVD(HDPCVD)和原子层沉积(ALD)。#三氟莱...
拓荆科技:公司作为国内量产型PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等薄膜沉积设备和混合键合设备的领军企业,订... 同花顺(300033)金融研究中心07月11日讯,有投资者向拓荆科技提问, 近期股市股价可能受市场传闻贵司被抢单而跌跌不休,公司作为新质生产力代表,能否站在中小投资者的立场上,能否对此澄清或者考虑早日披露公司中报...
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公司预计2024年年度营业收入较上年同期有较大增幅,主要原因是面向国内集成电路行业快速发展带来的机遇,公司作为国内高端半导体设备领域的领军企业,继续专注于薄膜沉积设备和混合键合设备的自主研发与产业化,凭借在产品技术创新、客户资源、售后服务等方面的核心竞争优势,PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充CVD(...