FPA-1200NZ2C Nanoimprint Lithography Systems for Fine Patterning Applications FPA-1200NZ2C FEATURES • Canon NIL equipment can be used for a wide range of applications including logic, memory and metalenses for AR/VR displays • NIL process can simplify existing multi-patterning processes and ...
佳能发布5nm最新型光刻机FPA-1200NZ2C,或对半导体行业产生影响 2023年10月13日,日本佳能官网宣布,推出一款型号为“FPA-1200NZ2C”的半导体纳米压印设备,号称实现了目前最先进的半导体工艺。官方表示,该技术采用与传统投影曝光技术不同的方法形成电路图案,“担当”半导体制程中最重要的工序—图形转移。 纳米压印 纳米压...
Canon自2014年起研发的纳米压印微影技术,于2023年成功推出半导体制造设备。该设备名为“FPA-1200NZ2C”,可绘制5纳米芯片制程所需的最小线宽电路图案,接近ASML极紫外光(EUV)曝光机的性能,但耗能仅为其10%。 近期,Canon首次公布这款设备的出货对象——美国德州的半导体联盟Texas Institute for Electronics(TIE)。TIE将...