fcvd工艺产生的氧化硅 FCVD工艺可以产生氧化硅。这是一种利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,通过辉光放电将硅烷、氧气等气体分解成等离子体,在强电场力的作用下,这些等离子体在基底表面沉积成薄膜的过程。这种方法沉积的薄膜具有致密度高、附着力强、纯度高、可大面积制备、生产成本低等特点,是一种重要的工艺...
它能够适应深宽比在6:1左右的需求,并满足90纳米技术节点的要求。3️⃣ FCVD(流体CVD):这种远程等离子体沉积技术特别适用于14纳米及以下制程的细小沟槽填充。反应前驱物定向引入反应腔室,对沟槽实现自下而上的填充,可以满足14纳米以下制程要求的填孔能力。每种技术都有其独特的优势和应用场景,共同构成了芯片制造...
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有没有大神告知一下FCVD(flowable CVD 流体化学气相沉积)的应用场景，及这种镀膜技术的优缺点，有相关...
中新社江门6月25日电 (陈浩光 李健群)25日启程飞赴非洲国家赤道几内亚开展医疗援助的中国第26批援非医疗队,选择了富有江门侨乡特色的新会工艺葵扇,作为带到赤道几内亚赠送给该国总统的礼品。 此次赠送的新会工艺葵扇共有16把,其中两把图案为小鸟天堂的大件烙画葵扇将作为礼品赠送给赤道几内亚总统,另外的10多件葵扇将分...
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