必应词典为您提供ECR-CVD的释义,网络释义: 电子回旋共振化学气相沉积;电子回旋共振化学汽相沉积;化学气相沉积系统;
ECR-CVD键结合氟化非晶碳膜采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积 (ECR CVD)技术 ,用苯和三氟甲烷混合气体 ,制备了氟化非晶碳膜 (a C:F).用红外吸收光谱 (FTIR)和X射线光电子能谱 (XPS)分析了a C:F薄膜的结构.FTIR结果表明 ,氟主要以C—F,CF2 的形式成键形成a C:F薄膜 ;XPS结果进一步证明a C:F膜...
首先,用ECR-CVD我们得到～1020cm-3 高载流子浓度的20nm p外延层,无ITO层的μc-Si:H(p)/c-Si(n) 平面Si太阳电池的转换效率接近6.8%(面积为0.63cm2),Jsc是17.4mA,Voc是511mV, FF达到63.4%,见图4(a)。进而,我们认为在同一薄膜厚度下Voc和Jsc有可能比用PECVD制备的更好,这是由于在ECR-CVD系统中掺杂层...
微波电子回旋共振化学气相淀积
ECR-CVD制备类金刚石碳膜的正交实验法研究
1ECRCVD设备的基本原理 1.1工艺目的：在半导体激光器的前后腔面镀光学介质膜用以形成谐振腔。1.2英文翻译：ElectronCeclotronResonanceChemicalVaporDeposition电子回旋共振化学气相沉积1.3设备基本原理：微波激励、磁场限制气体辉光放电产生等离子体，在淀积室中反应并沉积形成介质膜。微波激励气体辉光放电，磁场可以增加离子...
1. 用ECR-CVD方法制备SiO2薄膜 2. 碳纳米管异质结构的ECR-CVD法制备 3. ECR-CVD制备的非晶SiOxNy薄膜的光致蓝光发射 4. ECR-CVD法制备的a-C:F:H薄膜在 N2气氛中的热退火研究 5. h-BN 薄膜表面 PMMA 残留去除研究 6. 热丝辅助ECR CVD制备cBN薄膜 7. 乙醇为碳源的低氢常压CVD法制备石墨烯薄膜...
等离子体cVD技术由于实现了低温化,因而可作多种用途.但存在的 问题有,膜中进 入了大量的氢,分子的结合不完全,披密性欠缺等若能使等离子体成 膜反应效果进一步加 强,可望在更大程度上实现工艺的低温化和提高膜质. 用电子回旋共振(ElectroⅡCyclotronResoⅡance,ECR)产生等离子体 ...
碳纳米管异质结构的ECR-CVD法制备 2. Preparation of one-dimensional nanomaterials byECR-CVD; 一维纳米材料的ECR-CVD方法制备 3. Synthesis and Characterization of Large Area Well-Aligned Carbon Nanotubes by Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition (ECR-CVD); ...
采用电子回旋共振(ECR)等离子体刻蚀与机械抛光相结合的方法抛光化学气相沉积(CVD)金刚石,运用扫描电镜、Raman光谱观察、分析了刻蚀与抛光后金刚石的表面形貌和质量变化,并与单纯的机械抛光相比较,研究了等离子体刻蚀对后续机械抛光的影响,结果发现:金刚石经ECR等离子体刻蚀后非晶碳含量有一定程度降低,刻蚀过程在金刚石晶面...