电子束物理气相沉积(EBPVD)技术是PVD技术中的一种,由于其特性而常被用于制备大尺寸高温合金薄板。蒸发源的位置不同将会对薄膜厚度的均匀性以及蒸发效率产生严重的影响。靶基距与有效蒸发效率成反比关系,而坩埚位置不同,薄膜厚度分布也不同。为了获得厚度均匀性较好的薄膜且得到一个较高的蒸发效率,本文探讨了双源蒸发...
TPS外表层ZrO2功能涂层的EB-PVD工艺方法研究 硕士研究生,张景宝 导师,**副教授 申请学位,工学硕士 学科、专业,材料学 所在单位,复合材料与结构研究所答辩日期,2006年6月 授予学位单位,哈尔滨工业大学ClassifiedIndex,TG154.4 U.D.C,620 DissertationfortheMasterDegreeinEngineering ...
结合分析试验的方法并依照EB-PVD工艺特点,对蒸气粒子的传输、饱和蒸气压对蒸发原子的影响以及Al的再蒸发进行了研究.结果表明:EB-PVD工艺制备Ti-Al薄板的最佳靶基距为280mm;饱和蒸气压的差异使得材料截面呈现分层特征;加入Nb片可以减小由于Ti、Al的蒸发速率差异导致的沉积材料与靶材之间的...
为探讨电子束物理气相沉积(EB-PVD)制备8 mol.%氧化钇稳定氧化锆(8YSZ)涂层过程中工艺参数对涂层致密性、表面粗糙度和晶粒择优取向生长的影响,利用扫描电镜、原子力显微镜和X射线衍射技术对涂层的上述性能进行了分析.分析结果表明,随沉积速率由750 nm/min下降至20 nm/min,YSZ涂层的晶粒逐渐聚合长大,晶粒之间的孔隙减...
采用电子束物理气相沉积(EB-PVD)工艺制备了NiCrAl高温合金薄板.采用XRD对薄板进行了相分析,结果表明,这种高温合金薄板是由γ'和γ两相组成.从薄板的横截面显微组织分析表明,高温合金中γ'以颗粒状形式弥散分布在γ基体上;从薄板的纵截面可以看出,组织为柱状晶和粒状晶交替组织.薄板的常温抗拉强度为446.89...
PVD镀膜,即物理气相沉积(Physical Vapor Deposition)工艺,是一种在真空条件下,利用物理方法使材料沉积在被镀工件表面形成薄膜的技术。以下是对PVD镀膜工艺的详细解析: 一、工艺原理 PVD工艺主要通过以下步骤实现镀膜: 蒸发或溅射:将涂层物质源(固态物质)通过加热或高能粒子撞击等方式,使其蒸发或溅射成气态原子或分子。
PVD工艺流程主要包括预处理、蒸发源、沉积和后处理四个步骤。 首先是预处理。材料表面的预处理是确保薄膜沉积质量的关键步骤。预处理包括清洗和表面活化,以去除杂质和提高表面粗糙度。清洗可以采用溶剂清洗、碱洗或酸洗等方法,用以去除表面的油脂、污垢和氧化物。而表面活化可以利用等离子体进行,以提高材料表面的能量,使...
第六章 PVD 工序 6.1 PVD 工艺的目的 溅射法利用带有电荷的离子在电场中加速后具有一定动能的特点,将离子引向欲被溅射的 物质做成的靶电极。在离子能量合适的情况下,入射离子在与靶表面原子的碰撞过程中将后者 溅射出来。这些被溅射出来的原子带有一定的动能,并且会沿着一定的方向射向衬底——玻璃 基板,从而沉积在...
PVD即物理气相沉积(Physical Vapor Deposition),是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。 动图来源YouTube 机械抛光是靠切削...
PVD电镀工艺具有很多优势,如高度均匀的薄膜质量、较高的附着力、较低的工件变形以及对环境的友好等。本文将重点介绍PVD电镀工艺的原理、应用以及未来的发展方向。 第一部分:PVD电镀工艺的原理 PVD电镀工艺的原理是利用高能粒子(离子、原子或分子)对材料表面进行沉积而形成薄膜。PVD电镀工艺通常包括以下几个步骤: 1. ...