CVD工艺是制造三维器件中多种薄膜的关键方法,以下是其在具体场景中的应用: 浅槽隔离(STI):SACVD和HDPCVD用于填充狭窄间隙,形成高质量的SiO₂隔离层。 金属前绝缘层(PMD):沉积覆盖性优异的绝缘膜,确保金属化互连的电气性能。 外延薄膜生长:通过MOCVD工艺沉积化合物半导体材料,用于高频通信器件和高效光电元件。 四、...
化学气相沉积(CVD)被定义为由于气相化学反应而在基体表面上沉积固体薄膜,是一种薄膜工艺,其中沉积物质通常是原子、分子或两者的组合,一般来说,通过吸附气相前驱体的表面介导反应在基板上形成固体薄膜的工艺称CVD 一、派瑞林化学气相沉积(派瑞林CVD) 派瑞林镀膜加工工艺 派瑞林(Parylene)涂层通过采用化学气相沉积(CVD)技...
化学气相沉积(CVD)被定义为由于气相化学反应而在基体表面上沉积固体薄膜,是一种薄膜工艺,其中沉积物质通常是原子、分子或两者的组合,一般来说,通过吸附气相前驱体的表面介导反应在基板上形成固体薄膜的工艺称CVD 一、派瑞林化学气相沉积(派瑞林CVD) 派瑞林镀膜加工工艺 派瑞林(Parylene)涂层通过采用化学气相沉积(CVD)技...
化学气相沉积(CVD)被定义为由于气相化学反应而在基体表面上沉积固体薄膜,是一种薄膜工艺,其中沉积物质通常是原子、分子或两者的组合,一般来说,通过吸附气相前驱体的表面介导反应在基板上形成固体薄膜的工艺称CVD 一、派瑞林化学气相沉积(派瑞林CVD) 派瑞林镀膜加工工艺 派瑞林(Parylene)涂层通过采用化学气相沉积(CVD)技...