品名 化学式 电子等级 应用 CMP Pad(研磨垫) 可用于长晶厂,IC Fab厂的抛光研磨制程,面板减薄上一页 CMP Slurry(研磨液) 无 下一页 网站首页 企业信息 产品中心 合作伙伴 客户服务 最新产品 人事招募 锴明电子科技(上海)有限公司 地址:上海市徐汇区田林路105号虹梅国际广场601A室 电话:+86-21-6475-3966 传真:+86
SKC对半导体材料的韩国本地化做出了重大贡献,其具有的聚氨酯的技术知识,使SKC在CMP研磨垫(CMPPad)的生产上实现了韩国本地化,并使SKC成为较早开发工业技术生产线的企业之一。在半导体曝光生产的过程中,SKC为高质量的空白光掩膜版材料的韩国本土化生产做出了重大贡献。那我们具体了解一下CMP研磨垫。 CMP研磨垫 提高半...
吉致电子CMP PAD 聚氨酯抛光垫 抛光皮 聚氨酯抛光垫的性能特点 高弹性:能够较好地贴合被抛光物体的表面,即使是复杂的曲面也能实现均匀抛光,减少CMP抛光过程中出现的局部压力过大或过小的情况,从而提高抛光质量。 高耐磨:在长时间的抛光过程中,能够保持自身的形状和性能不易磨损,延长了抛光垫的使用寿命,降低了使用成本...
CMP Pad CMP垫(化学机械抛光垫,Chemical Mechanical Polishing Pad)是通过物理、化学反应研磨半导体晶圆表面,使晶圆表面达到平坦化等提高半导体集成度所需的产品。该产品属于消耗性材料。 CMP—化学机械平坦化 CMP Pad—CMP研磨垫 CMP Pad 开发概念 材料性能控制 接触面物性控制 产品目录 原文始发于微信公众号(SKC爱思...
www.2ic.cn|基于7个网页 2. 化学研磨垫 ...来愈快,陶氏化学表示,目前与前5大客户之间32奈米化学研磨垫(CMP Pad)认证已快完成,目前正积极进行下一世代22奈米 … news.cecb2b.com|基于2个网页 3. 抛光垫 9月荣获全球最大半导体抛光垫(CMP PAD)供应商Rohm and Haas最佳杰出策略夥伴奖。 10月荣获第五届国...
1 : 抛光阻尼布、SUBA抛光垫、合成纤维抛光垫、CMPPAD抛光垫、聚氨酯抛光研磨片、CMP抛光垫功能制作 2 : 蓝宝石抛光垫、2.5D/3D弧面曲面抛光垫、聚氨酯抛光皮、氧化铈抛光垫、抛光绒布、无蜡抛光吸附垫、无蜡垫 3 : 铝合金镜面抛光皮、聚氨酯抛光轮、不锈钢/铜抛光垫、研磨盘、玻璃抛光吸附垫 可完美替代:POLY...
ꁇ CMPPAD抛光垫、抛光阻尼布、合成聚合物抛光垫、CMP研磨抛光片;蓝宝石抛光垫、聚氨酯抛光垫、氧化铈抛光垫、无蜡抛光吸附垫;2.5D/3D研磨抛光垫、聚氨酯抛光轮、金属镜面抛光垫,抛光盘;光学保护膜贴、单双面胶贴胶垫、沟槽设计模切、上胶贴合制品;
抛光阻尼布,聚氨酯抛光垫,合成聚合物抛光垫,SUBA抛光垫,CMPPAD,CMP研磨抛光片, 蓝宝石抛光垫,2.5D/3D弧面曲面抛光垫,氧化铈抛光皮,无蜡抛光吸附垫,研磨抛光吸附垫,精密金属镜面抛光皮,聚氨酯抛光轮,光学玻璃抛光垫,聚氨酯抛光轮,抛光盘,光学保护膜贴,单双
CMP Pad 国产化替代 普利英（重庆）创新科技有限公司成立于2020年，坐落于重庆市南川区水江工业园区，占地150亩，注册资本金5000万元。我司产品主要分为四类：一、RobaPad， 适用于半导体集成电路CMP；二、NeraPad，适用于半导体CMP Final Buffing、精拋；三、TenoPad，适用于半导体衬底CMP、粗拋；四、VeloPad 快速...
CMPPAD及CMP技术应用浅析 CMP,即Chemical Mechanical Polishing,化学机械抛光。 CMPPAD,即Chemical Mechanical Polishing Pad,化学机械抛光垫。 一、CMP基本原理 从宏观上来说,CMP基本原理是:将旋转的被抛光晶片压在与其同方向旋转的CMPPAD弹性抛光垫上,而抛光浆料在晶片与底板之间连续流动。上下盘高速反向运转,被抛光...