1.Canon FPA5000 ES4扫描式光刻机 光源波长248nm 分辨率优于0.13µm 用于6寸、8寸及12寸生产线 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域 2.产品详情 主要技术指标 分辨率0.13µm N.A.0.5-0.8 曝光光源248nm 倍率4:1 曝光现场26mm*33mm
1.Canon FPA5000 ES4扫描式光刻机 光源波长248nm 分辨率优于0.13µm 用于6寸、8寸及12寸生产线 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域 2.产品详情 主要技术指标 分辨率0.13µm N.A.0.5-0.8 曝光光源248nm 倍率4:1 最大曝光现场26mm*33mm ...
Canon FPA5000 ES4扫描式光刻机,光源波长248nm,分辨率优于0.13µm,用于6寸、8寸及12寸生产线,广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等域。 详细介绍 1. 产品概述 Canon FPA5000 ES4扫描式光刻机,光源波长248nm,分辨率优于0.13µm,用于6寸、8寸及12寸生产线,广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等域。 2...
Canon FPA5000 ES4扫描式光刻机,光源波长248nm,分辨率优于0.13µm,用于6寸、8寸及12寸生产线,广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等域。 详情介绍 1.产品概述 Canon FPA5000 ES4扫描式光刻机,光源波长248nm,分辨率优于0.13µm,用于6寸、8寸及12寸生产线,广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等域。
Canon FPA5000 ES3扫描式光刻机,主要用于6寸、8寸及12寸生产线,广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等域。 详情介绍 1.产品概述 Canon FPA5000 ES3扫描式光刻机,主要用于6寸、8寸及12寸生产线,广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等域。 2.设备特点 ...