使用O2等离子体氧化AlGaN层,并且使用BCl3等离子体去除氧化层。O2和BCl3的气体流速分别为50和10sccm。在O2和BCl3等离子体步骤之后,进行泵送步骤30秒,以避免任何残余O2或BCl3气体污染样品。 O2和BCl3等离子体处理过程中的压力分别为50毫托和10毫托,研究了ICP和偏置功率对DC自偏置的影响,如图所示2。观察到DC自偏压分别...
BCL3是三氯化硼,而金属氧化物是指由金属与氧元素组成的化合物。这两者之间没有明确的化学反应。然而,在某些条件下,BCL3可能会与金属氧化物发生反应,产生不同的产物。例如,当BCL3与铝氧化物(Al2O3)反应时,可以得到三氯化铝(AlCl3)和氧气(O2)作为产物。 反应方程式如下: 2BCl3 + Al2O3 → 2AlCl3 + 3O2...
In the study, the surface morphology and antireflection behavior of the textured GaAs were found to vary at different etching time, power conditions, and O2 contents. Combined with the surface element analyses, the etching mechanism of the maskless process was proposed. It is considered as a ...
②对于反应(I)O2NNH2(aq)O2NNH-(aq) +H+(aq),化学平衡常数K=,由于v(正)=k1c(O2NNH2),v(逆)=k -1 c(O2NNH-)•c(H+),当反应达到平衡时,v(正)=v(逆),所以k1c(O2NNH2)=k -1 c(O2NNH-)•c(H+),则K=;③总反应速率方程为v=K,由于反应(I)v(正)=k1c(O2NNH2),v(逆)=k -...
氧气(O2) ≤1- 氮气(N2) ≤4- 二氧化碳(CO2) ≤2- 甲烷(CH4)≤0.5 - 一氧化碳(CO)≤0.5 - 四氯化硅(SiCl4)- ≤300 氯气(Cl2)- ≤10 其他(Others)- ≤500 包装:采用44L、47L钢瓶充装,也可根据客户需要分装到4-10L的气瓶中。 用途: ...
KClO3+6HCl(浓) ═KCl+3Cl2↑+3H2O ih→de→fg(或gf)→bc(或cb)→de 饱和食盐水 硼粉与HCl气体反应生成H2,加热H2与Cl2的混合气体易发生爆炸 会生成B2O3,使产品不纯 BCl3+3H2O═H3BO3+3HCl↑ 2H2O - 4e-═O2↑+4H+ 阳极室的H+穿过阳膜扩散至产品室,原料室的B(OH)4- 穿过阴膜扩散至产品室,...
相对密度1.43。熔点-107.3℃。沸点12.5℃。三氯化硼反应能力较强,能形成多种配位化合物,具有较高的热力学稳定性,但在放电作用下,会分解形成低价的氯化硼。在大气中,三氯化硼加热能和玻璃、陶瓷起反应,也能和许多有机物反应形成各种有机硼化合物。 应用领域...
KClO3+6HCl(浓) ═KCl+3Cl2↑+3H2O ih→de→fg(或gf)→bc(或cb)→de 饱和食盐水 硼粉与HCl气体反应生成H2,加热H2与Cl2的混合气体易发生爆炸 会生成B2O3,使产品不纯 BCl3+3H2O═H3BO3+3HCl↑ 2H2O - 4e-═O2↑+4H+ 阳极室的H+穿过阳膜扩散至产品室,原料室的B(OH)4- 穿过阴膜扩散至产品室,二...
部分物质的熔点数据如下表:Na2ONaAlF3AlCl3Al2O3BCl3CO2SiO2920℃97.8℃1291℃190℃2073℃-107℃-57℃1723℃下列说法正确的是( ) A.AlF3.AlCl3.BCl3都是离子化合物B.表中共价化合物分子的所有原子都形成了8电子结构C.同族元素的氧化物形成的晶体类型一定相同D.金属晶体
-|||-(1)0中键数为4,孤电子对数=(6+2-4-|||-×2)=0,中心S原子的杂化轨道类型是sp3杂化,-|||-空间构型为正四面体形;O2-中σ键数为4,孤电-|||-子对数=(6+2-4×2)=0,中心5原子的杂化轨道-|||-类型是sp3杂化,S原子含有孤电子对数为1,属于-|||-该离子为三角锥形;-|||-(2)BC3中的B...