型号 BCB3000系列 工艺 精湛 贮存方式 避光常温保管 封装 纸箱 产品类型 半导体材料 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的结算价格为准,如用户在爱采购上完成线上购买,...
[0001]本发明涉及半导体工艺中的一种刻蚀方法,具体的,本发明涉及一种BCB材料的刻蚀方法。技术背景[0002]在雷达发射机系统、卫星通信以及各种通信导航电子战系统中,广泛采用微波集成电路芯片。芯片工作速度的提高对超高速数字和混合信号电路提出了极高的要求。这些电路在军事上的应用和发展中,尽可能采用高速的材料体系。
一种BCB材料的刻蚀方法 (57)摘要 本发明提出一种BCB材料的刻蚀方法,包括:a.提供半导体芯片,所述芯片表面覆盖待刻蚀的BCB材料层;b.采用电感耦合等离子体对所述BCB材料进行刻蚀;其中,刻蚀条件为:刻蚀温度为18～22℃;等离子体刻蚀功率为140～160W;射频功率为12～15W;腔体压力为0.4～0.6mT;SF 法律状态 法律状态公告...
刻蚀技术对于调控单晶硅片的反射率具有重要作用。随着科技的进步,未来可能会有更多先进的刻蚀技术出现,进一步提高单晶硅在各种光电应用中的性能。同时,对于单晶硅材料本身的研究也将持续深入,以期发现更多降低其反射率、提高其光电性能的方法。 总的来说,刻蚀单晶硅片的反射率是一个复杂而多变的参数,受到...
刻蚀工艺 微电子 设备维护 必要条件: 1、全日制本科及以上学历,微电子、材料、化学、半导体物理等相关专业; 2、对干法刻蚀以及湿法腐蚀工艺都有良好的掌握,要求至少精通其中一种。 任职资格: 1、全日制本科及以上学历,微电子、材料、化学、半导体物理等相关专业; 2、对干法刻蚀以及湿法腐蚀工艺都有良好的掌握,要求至...
1. 干法刻蚀 干法刻蚀是一种使用气体或等离子体来加工材料的刻蚀方法。在干法刻蚀过程中,气体被放电激活,产生的等离子体会对半导体表面产生化学反应,从而实现对半导体表面的刻蚀。干法刻蚀具有高能量、高速度和可选择性等优点,适用于对高硬度材料的加工。 2. 湿法刻蚀 湿法刻蚀是一种使用...
采购项目名称: 感应耦合等离子体刻蚀机 预算金额: 400.000000万元(人民币) 采购品目: A02052402真空应用设备 采购需求概况 : 晶圆尺寸:< 8 英寸;主要气体:Cl2、BCl3、N2、Ar、CHF3、CF4、SF6、O2;主要刻蚀材料:SiO2, SiNx。2023年6月到货,现场调试时间不小于一周,验收完成以后保修期3年。 预计采购时间: 202...
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干法刻蚀是指利用低温等离子体或化学气相反应的原理进行刻蚀的方法。它通过在真空中产生等离子体或者将气体注入反应室,在气体中通过加能使气体分子发生引起化学反应的碰撞,从而刻蚀掉材料表面的部分区域。 二、优势与应用 1. 高选择性 干法刻蚀具有高度的选择性,可以保证只刻蚀需要去除的部分,而不...
@武汉吉业升化工有限公司氢氧化钠刻蚀铝的原理 武汉吉业升化工有限公司 氢氧化钠刻蚀铝,主要利用其与铝反应生成的偏铝酸钠和水,该过程为放热反应,能加速刻蚀。店内提供的吉业升品牌氢氧化钠,含量高达99%,白色片状固体,纯度高,刻蚀效果好。产品执行GB/T209-2018标准,武汉发货,支持物流。其氯化钠含量低至0.0085%...