AZ300MIF是一种高纯度有机碱性显影液,主要用于AZ系列光刻胶的显影过程。以下是关于AZ300MIF显影液的一些具体信息: 一、主要用途 AZ300MIF显影液通用于AZ系列光刻胶,适用于各种显影工艺,如Puddle、Dip等。由于其无表面活性剂的特性,也使得Spray显影成为可能。 二、使用注意事项 配比与储存:使用时,请按照具体工艺...
型号AZ 300MIF 点击下载技术说明书>>Composition information:?Hazardous ingredients:?Chemical NameCAS-no. (TradeConcentration [%]secret no.)Tetramethylammonium hydroxide75-59-22.00 - 0.00Non-hazardous ingredien 点击下载技术说明书>> Composition information: ...
AZ 300MIF 显影液技术资料 下载积分: 700 内容提示: D A T A S H E E TAZ® 300 MIF DeveloperDescriptionAZ® 300 MIF positive photoresist devel-oper is a high purity formulation of theindustry standard 2.38 weight % tetra-methyl ammonium hydroxide (TMAH)and 0.261N metal-ion-free developer...
AZ 400K Developer显影液信息 热度: 重氮复印机用无氨显影液+技术条件 热度: AZ_PR光刻胶的数据资料(PDF精品) 热度: 相关推荐 AZ 300MIF 显影液技术资料,AZ 300MIF 显影液技术资料——所有资料文档均为本人悉心收集,全部是文档中的精品,绝对值得下载收藏!,显影液,AZ,资料,技术,显影,◆...
二、 成份辨識資料 純物質: 中( 英) 文名稱: AZ 300MIF DEVELOPER 顯影劑 同義名稱: 化學文摘社登號碼 (CAS No.) : 危物成份(含量%): 混合物: 化學性質: 危害物質成份之中英文名稱 濃度或濃度範圍(成份百分比) 危害物質分類及圖示 氫氧化四甲銨 Tetramethylammonium hydroxide 2% TMAH Existing Chem. Subst...
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AZ 300MIF 显影液技术资料 MATERIAL SAFETY DATA SHEET AZ(R) 300 MIF DEVELOPER Substance key: BBG70N4 REVISION DATE: 07/25/2005 Version Print Date: 07/25/2005 1/6 Section 01 - Product Information Identification of the company:AZ Electronic Materials USA Corp. 70 Meister Avenue Somerville, ...
牌号:AZP4903 AZ400K AZ300MIF 类型:元素半导体材料 材质:曝光显影油墨 用途:圆形化衬底(PSS) 外观:使用各种显影工艺 产地:G线I线通用 密度:宽膜厚g/cm3 硬度:纹理油墨Kg/mm2 特性:高感光度 电阻率:AZP4903Ω*m 适用温度:AZ400K℃ 规格尺寸:AZ300MIF mm ...
型号:AZ 300MIF 显影液 产品名称:AZ 300MIF 显影液 Form:Liquid Odor:Slight amine odor Water solubility:soluble Loss on drying:97.6 % 供应商信息 王女士 地址: 中国 北京 北四环中路238号柏彦大厦406F 公司主页://hkrwc.cn.makepolo.com