揭秘传统I-line光刻胶配方mp.weixin.qq.com/s?__biz=Mzg4ODI1NTEzOA==&mid=2247485690&idx=1&sn=5dfecb34101312d2baf4ad3a9a24ca0c&chksm=cffcaf37f88b262191d204813eedfda1a3a363fca3cd96fd10fcf37f5f41e98e1de18ff43610&scene=21#wechat_redirect AZ4620的详细配方? 化学成分 含量(%) 1-Met...
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az4620光刻胶的基质是聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或其共聚物。PMMA是一种透明、无色的聚合物,具有优良的光刻特性和化学稳定性。在光刻胶中,基质的作用是提供胶体的机械强度和稳定性,以确保光刻过程的顺利进行。 2. 光致引发剂 az4620光刻胶中通常含有一种或多种光敏物质,即光致引发剂。这些光致引发剂在受到特定波...
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■ l 用于微器件加工的 AZ4620 厚胶光刻工艺研究 罗铂靓 ,杜惊雷 ,唐雄 贵 ,杜春 雷 ,刘世 杰 ,郭永康 ( 1. 四川大学物理学院,成都 610064; 2. 微细加工光学技术I *1家重点实验 室,成都 610209 3. 陕西理工学院物理 系,陕西 汉中 723001 ) 摘要 :对 A E 4620 厚胶紫外 光刻工艺进 行 了实验...
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