AZ 400K Developer显影液信息 下载积分: 700 内容提示: SECTION 1. CHEMICAL PRODUCT AND COMPANY IDENTIFICATION --- MANUFACTURER/SUPPLIER NAME: CLARIANT CORPORATION AZ ELECTRONIC MATERIALS P.O. BOX 3700, 70 MEISTER AVENUE SOMERVILLE, NJ 08876-1258 TELEPHONE NUMBERS: EMERGENCY-CHEMTREC: (800) 424-9300...
( 英) 文名稱: AZ 400K Developer 顯影劑 同義名稱: 化學文摘社登號碼 (CAS No.) : 20786-60-1 & 1310-58-3 & 7732-18-5 危物成份(含量%): 混合物: 化學性質: 危害物質成份之中英文名稱 濃度或濃度範圍(成份百分比) 危害物質分類及圖示 Potassium boric acid 硼酸鉀 未頒布 Potassium hydroxide 氫...
AZ(R)400KDEVELOPER SYNONYMS: NONE MSDSNO.:7070 REVISIONDATE:11/19/1999 DATEPRINTED:03/31/2000 ---SECTION2.COMPOSITION/INFORMATIONONINGREDIENTS--- CHEMICALNAME&WEIGHTHAZARDOUS?NJTRADEINGREDIENTOTHER CASNUMBERPERCENTSECRET#SYNONYMSINFORMATION: WATER>85NONANONENJ/PARTKLISTINGS. 007732-18-5NOTONANYOTHER ...
The photoresist developer AZ-400K, commonly used to remove AlN encapsulant layers on GaN crystalline films, is found to also etch certain as-grown GaN films. Even as-grown GaN films, which can not be etched in AZ-400K, however can be etched if amorphized by ion implantation. Etch rates...
AZ400K显影液MSDS 1.物质的理化性质 名称：AZ 400K 显影液 成分：有害成分：硼酸钾（K2B4O7）CAS号：20786-60-1 浓度：＜15% 无害成分：水（H2O）CAS号：7732-18-5 浓度：＞85% 密度：1.085 g/cm3 沸点：100℃ 外观与性状：透明无色液体 气味：无气味。pH值：12.9 （碱性溶液）溶解性：与水混溶...
Nord-test developer U89 Helling GmbH 显影剂 进口 品牌HellingGmbH 上海中元芯半导体有限公司 2年 查看详情 ￥45.00/公斤 湖北武汉 菲尼酮 92-43-3 照相显影剂 湖北科沃德化工有限公司 4年 查看详情 ￥25.00/千克 湖北武汉 4-甲氨基苯酚硫酸盐 米吐尔 55-55-0 快速显影剂也用作感光材料黑白显影剂 快...
AZ Developer(1:1)23℃ 60秒Dipping AZ 400K(1:4)23℃ 60秒Dipping 清洗：去离子水30秒 后烘：1、20℃ 120秒（DHP）剥离：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化 AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率；高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进；广泛应用于全球半导体行业。光刻胶...
AZ ® 400K 1:3 or 1:4, AZ ® 421K, AZ Developer 1:1, AZ 340 Removers AZ ® 300T, AZ ® 400T, AZ Kwik Strip AZ® P4000 Series Positive Tone Photoresists TYPICAL PROCESS Soft Bake: 90-115C* Rehydrate: for films > 4.0µm thick Expose: 350-450nm sensitive ...
加仑 日本 显影液 AZ 400K (KOH) 加仑/200L 台湾 AZ 300MIF 加仑/ 韩国 AZ 726MIF 5L 德国 AZ 826MIF 5L 德国 AZ 340developer 5L 德国 去胶液 AZ 400T 加仑/200L 日本 AZ Remover700 加仑 日本 AZ Kwik stripper 加仑 日本 HMDS AZ AD promoter 加仑 日本 Barc ...
based upon potassium hydroxide. The preferred developer is AZ®400K Developer 1:4, a buffered developer designed to maximize bath life and process stability. For integrated circuit applications, TMAH developers such as AZ®300 MIF developer can be used.1µm Film Thickness 4.6 µm ...