The TWINSCAN NXT:870 step-and-scan system is a high-productivity, dual-stage KrF lithography machine designed for volume production of 300 mm wafers at and below 110 nm resolution and is based on the highly reliable, ultrafast NXT platform widely used in ASML’s dry ArFi and ArF systems. B...
以ASML为例，近两年来其来自中国区的净系统销售额占比令人瞩目，取得了不错的增长。尽管ASML预计未来来自中国大陆的营收占比将恢复至20%，趋向历史正常水平，ASML仍非常看好未来中国大陆市场对于成熟制程设备的需求增长所带来的机会。在2024年上海召开的进博会上，ASML还面向国内客户展示了其受欢迎的几款DUV机型——N...
2024年中国国际进口博览会上，ASML展示了3款旗舰DUV光刻机，包括TWINSCAN NXT: 1470、NXT: 870和即将推出的XT: 260，这些机型吸引了广泛关注。其中，NXT: 1470是一款产能强大的双平台ArF干式光刻设备，成为业界首款每小时晶圆产量突破300片的系统；而NXT: 870则是一款高效能的KrF光刻设备，其每小时晶圆产量更是高达...
今年是ASML第六年参加进博会。与往年类似，ASML在展台上主要通过模型和视频等形式，展示其融合光刻机台、计算光刻和量测的全景光刻解决方案。但稍有不同的是，今年ASML在展示解决方案时，着重介绍了具体产品，例如三款应用广泛的深紫外光刻机（DUV）：NXT:1470、NXT:870和XT:260，以及量测设备eScan 1100等。这其...
但稍有不同的是,今年ASML在展示解决方案时,着重介绍了具体产品,例如三款应用广泛的深紫外光刻机(DUV):NXT:1470、NXT:870和XT:260,以及量测设备eScan 1100等。 这其中,NXT:1470光刻机的照明波长为193nm,分辨率为≤57nm,套刻精度≤4.5nm。而前不久,中国工信部推广的国产氟化氩光刻机,照明波长为193nm,分辨率...
如在2022年，ASML就实现了不少重要进展：例如在 DUV 方面，他们交付了NXT KrF 系统的首台设备TWINSCAN NXT:870和第一台 TWINSCAN NXT:2100i。和大多数读者一样，笔者较为关心ASML在下一代EUV光刻机——High NA EUV光刻机方面的进展。按照ASML所说，在历经六年的研发后，他们在2022年收到了供应商提供的第一...
ASML还交付了最新一代浸润式DUV系统NXT:2150i和最新一代KrF DUV系统NXT:870B,后者可实现高达400片晶圆每小时的生产效率,显著高于前代系统。 长期市场预期 ASML对半导体行业的长期发展前景持积极态度。傅恪礼表示,AI将推动更先进技术的发展,帮助应对成本和能耗问题。ASML预计,到2030年,公司年收入将达到440亿至600亿欧...
在2024年上海召开的进博会上,ASML还面向国内客户展示了其受欢迎的几款DUV机型——NXT: 1470、NXT: 870。ASML官方资料显示,这两款从XT气浮平台升级至NXT磁浮平台的干式DUV产品,能显著提升产能并降低单位成本,其中NXT:1470 是ASML 第一款应用NXT平台并可实现每小时晶圆产量达300片以上的机型。
半导体最强战队ASML：硬核来华，深耕中国市场不动摇 2024年第七届进博会上，荷兰光刻机巨头ASML带来了一场科技盛宴，首次向公众展示了其全景光刻解决方案。作为全球光刻机行业的领军企业，ASML此次重磅推出三款深紫外光刻机（DUV）产品：NXT1470、NXT870和XT260，以及一款量测设备eScan 1100。从展台布置即可看出ASML对...
另外，ASML的DUV系统也在持续发展。ASML交付了最新一代浸润式DUV系统NXT:2150i，以及最新一代KrF DUV系统NXT:870B，后者可实现高达400片晶圆每小时的生产效率，显著高于前代系统。在应用方面，也有值得关注的亮点。2024年底，ASML的首批4单多电子束（Multi-beam）量测系统完成客户验收，这对ASML来说是一个重要的里程...