PVD镀膜 和ALD..PVD和CVD都是常见的气相沉积成膜技术,主要用于金属或合金材料表面的涂层处理。CVD(化学气相沉积)和PVD(物理气相沉积) 工艺的相似之处在于它们用于在原子或分子水平上创建纯度和密度非常高的薄膜。
除了确保ALD母材具有足够的反应性,母材的稳定度与蒸气压力具有关键性。若ALD大量取代传统的PVD和CVD技术,未来ALD母材的开发,在化学供应商、设备制造商以及元件制造商之间需密切配合,确保这些薄膜,能以可再生、生产保证的方式沉积。