ABM光刻机主要应用于制造MEMS、功率器件、化合物半导体等行业需要的芯片,这些芯片主要应用于航空航天、移动通讯、新能源汽车、消费电子、AI人工智能等。 光刻机的分类可以分为有掩膜和无掩膜光刻机,无掩膜光刻机主要为激光直写光刻机, 主要应用于FPD、PCB、PV等泛半导体领域,无掩膜光刻机在半导体制造领域较少使用。
ABM光刻机高精度紫外光刻机 英文名称: 总访问: 361 国产/进口: 进口 半年访问: 74 产地/品牌: 美国 产品类别: 其它各类仪器 型号: ABM/6/LED/DCCD/BSV/SA-AA 最后更新: 2025-2-24 货号: 参考报价: 2000000 立即询价 电话咨询 [发表评论] [本类其他产品] [本类其他供应商] [收藏] 分享:微信...
ABM紫外单面光刻机 设备名称:ABM紫外单面光刻机 设备型号:ABM/6/350/NUV/DCCD/M 设备厂商:美国ABM公司 用途:光刻胶的图形化 工作原理:将设计的掩模图形通过光刻机曝光转移到涂有光刻胶的晶片上 技术性能指标 1.紫外光波长:365nm,曝光能量密度18-20mW/cm2可调 2.样品尺寸:6英寸及以下 3.分辨率:接触式曝...
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美国ABM正面对准光刻机 美国ABM正面对准光刻机精度高 免费回电 立即联系 产品详情 截止到2008年1月,ABM公司在世界范围售出了500多台光刻机,50多台单独曝光系统。著名的客户包括美国NSA和INTEL、哈佛大学、LG、菲利普、惠普、3M等,ABM在中国各地也拥有不同领域的客户,包括众多的工厂、知名大学和研究所等。 设备...
ABM双面对准光刻机的高精度对准技术,可以有效提高制造精度和效率,满足不同领域的需求。 二、多种尺寸衬底支持 ABM双面对准光刻机支持2英寸、4英寸、6英寸、8英寸等多种尺寸的衬底,可以满足不同领域的制造需求。在电子封装、光电设备、探测器、MEMS和MOEMS设备以及...
ABM Inc.是其中的领导者之一,主要提供半导体前道制造的光刻机和先进封装的光刻机和键合设备。ABM Inc.成立于2003年,总部位于中国香港,在半导体光刻设备的行业经验超过20年。整机设备为自研自制,拥有超过2000+自主开发的光刻机重要零部件专有技术,且在光刻机关键子系统如全波段近、中、深紫外光源系统和折反射镜组...
品牌/型号:ABM公司,ABM/6/350/NUV/DCCD/BSV/M 所在地区:北京市 仪器说明:我们目前尚未与中国科学院力学研究所提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位,以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求,委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试,...
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