中文名称:含氢类金刚石薄膜 英文名称:a-C:H 纯度:99% 保存时间:1年 包装:瓶装/袋装 储藏条件:-20°C 下避光保存 用途:仅用于科研,不能用于人体 【详细信息】 磁控溅射技术具有以下优点: 第一,等离子体电阻较低,放电电流高(1A~100A); 第二,成膜较快,可以达到 1-10nm/s 之间; 第三,沉积时,基体温升...
基本的二级、三级溅射模式已经过多年的研发改进,并且已将多种材料成功应用于实际当中。包括:硬质薄膜、耐磨薄膜、耐腐蚀薄膜、光学类薄膜等。 【产品】 类石墨润滑薄膜(GLC) 锡硫基薄膜 Al/a-C:H纳米复合薄膜 Mo薄膜 以上文中提到的产品仅用于科研,不能用于人体及其他用途。
H 薄膜具有特定的组成区域.由于IR 分析法对SP3C/SP2C 分析存在着系 统误差,因而导致所得结构偏离该组成域.通过对IR 法的结果分析发现,SP3C 含量偏高, SP2C含量偏低;a-C:H 薄膜中SP2C 主要以非质子化形式存在,其含量可高达67 %;质子 化的SP2C仅占SP2C 总量的10 %左右.a-C:H 薄膜是受到较高约束的...
采用射频-直流等离子增强化学气相沉积法用C2H2与N2的混合气体制备了a-C:H(N)薄膜,用动物急性实验法和细胞毒性实验法研究了a-C:H(N)薄膜的生物相容性.结果表明,a-C:H(N)薄膜的生物相容性优于常用生物材料纯Ti,且能为细胞的生长提供合适的生长表面.关键...
2) a-C:H:N films a-C:H:N薄膜 3) N doped DLC α-C:H(N)薄膜 补充资料:BOPP薄膜用抗静电剂选择方法 据专家介绍,抗静电剂是BOPP薄膜助剂中需求量最大的品种,大多数用途的BOPP薄膜生产过程都需要加入抗静电母料。抗静电剂种类很多,按化学结构来区分,有阳离子型抗静电剂、阴离子型抗静电剂、非离子型抗...
高含H量a-C:H薄膜因能在宏观尺度实现超润滑(μ<0.01)而备受关注,具有广阔的应用前景.但高含H量a-C:H薄膜的摩擦学特性对测试条件十分敏感,为此,本文研究了典型工况(载荷)对薄膜摩擦学特性的影响及其摩擦学机制.采用球盘摩擦实验机对a-C:H薄膜在不同载荷下进行摩擦实验;使用表面轮廓仪观测薄膜在不同工况下的...
源气体对沉积的a-C∶F∶H薄膜结构的影响 采用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(MWP ECR CVD)方法,使用不同的源气体(CHF3/CH4, CHF3/C2H2, CHF3/C6H6)体系制备了a-C∶F∶H薄膜.由于CH4 ,C2H2 ,C6H6气体在等离子体中的分解反应不同导致了薄膜的沉积速率和结构上的差异.红外吸收谱的结果表明,用C6H6/CHF...
1) TiC/a-C:H film TiC/a-C:H薄膜 2) Ti Ti 1. EAM CALCULATION OF FORMATION ENTHALPIES OF Al,Li AND Mg(Ti) INTERMETALLIC COMPOUNDS; Al-Li-Mg(Ti)合金形成焓的EAM研究 2. ICP-AES Determination of Mn,Si,Al,Ti,Nb,La in Ultrahigh Strength Steel; ...
摘要: 本文通过测量掺杂a-Si:H和a-SiC"h薄膜的电导率随退火温度和退火时间变化研究了 温度对掺杂效率的影响以及杂质激活的微观过程.结果表明(1)杂质激活过程中伸展指数形式,(2)在低温区掺杂效率正比于e^-Rk/KT,(3)在高温 区掺杂效率达到-饱和值.通过一个与氢运动有关的杂质激活模型,我们解释了上述实验结果....
改变CHF3-CH4源气体流量比,使用微波电子回旋共振化学气相沉积方法(ECR-CVD)制备了具有不同C-F键结构的a-C:F:H薄膜,着重研究了退火对其结构的影响.结果显示薄膜的厚度及其光学带隙E04随退火温度的上升均呈现了不同程度的下降.借助于红外吸收光谱和所提出的热解模型解释了产生这种关系的结构上的根源. ...