一、靶中毒 1.1 问题定义 靶中毒是指在反应磁控溅射过程中，由于反应气体的引入，靶材表面与反应气体发生化学反应，形成化合物覆盖层，导致溅射速率显著下降、甚至放电异常的现象。1.2 中毒机理 靶中毒的本质是靶材表面活性位点被反应产物占据，阻碍了氩离子对靶材原子的有效溅射。具体机理可细分为：化学吸附与反应： ...
靶中毒是直流磁控溅射常见问题,严重影响实验进展,本文简述靶中毒额成因以及解决方案,适合初学者进行学习了解,具体细节还需查阅文献资料。 1:原因简述 靶中毒一般发生在直流溅射金属靶材上,关于靶中毒现象,…
❷ 结构缺陷：靶中毒引起的溅射不稳定可能导致薄膜出现结晶度差、孔隙率增高等结构缺陷。❸ 性能下降：薄膜的电学、光学和机械性能可能因靶中毒而受损，如电阻率升高、透光率降低以及硬度下降等。● 预防和解决靶中毒的措施 ❶ 优化工艺参数：通过合理选择气体种类和流量，精确控制反应气体的比例，同时调整溅射功率...
1一般情况下金属化合物的二次电子发射系数比金属的高靶中毒后靶材表面都是金属化合物在受到离子轰击之后释放的二次电子数量增加提高了空间的导通能力降低了等离子体阻抗导致溅射电压降低 磁控溅射中靶中毒是怎么回事 第一:靶面金属化合物的形成。 由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中,化合物是在哪里形成的呢?
4、控制镀膜模式的变化：镀膜前采集靶中毒的滞后效应曲线，使进气流量控制在靶中毒前，工艺始终处于沉积速率急剧下降前的模式.在靶材表面溅射金属原子相对容易,一般需要射频溅射 离子轰击使靶材表面的金属原子变得非常活泼。此时，靶材表面同时进行溅射和反应形成化合物。如果溅射速率大于化合物生成速率，则靶材处于金属溅射...
靶材中毒变黑的影响 a、正离子积聚：当靶材中毒时，在靶材表面形成绝缘膜。当正离子到达阴极靶表面时，由于绝缘层的阻挡，它们不能直接进入阴极靶表面。相反，它们沉积在靶材表面，很可能产生电弧放电——在冷场中产生电弧，使阴极溅射无法进行。b、阳极消失：当靶材中毒时，地面真空室壁上沉积绝缘膜，到达阳极的电子...
湿度和温度变化：过高或过低的湿度和温度都可能引起靶材中毒。化学反应：与空气或其他化学物质接触可能导致靶材化学性质改变。靶材中毒的可能影响 生产效率降低：靶材中毒可能导致生产过程中断或质量下降。成本增加：更换受损靶材和维修设备将增加额外成本。安全风险：在某些情况下，如核能领域，靶材中毒可能导致严重的安全风险...
通过多极磁控靶的设计，可以优化离子轨迹分布，降低靶材的损伤。表面处理改良：对靶材表面进行磨光或化学蚀刻，改善粗糙度，从物理上降低掉粉的可能性。加强日常维护：定期清理真空腔，避免掉粉颗粒积累对下游设备和薄膜质量的二次污染。三、靶材中毒 靶材中毒是溅射工艺中一个极具挑战性的问题，尤其是反应溅射工艺（如...
遇到钛靶中毒的情况，首先需要冷静处理。如果接触到硫酸，应立即脱掉被污染的衣物，用大量流动清水冲洗至少15分钟。随后，可以使用稀释的碳酸氢钠溶液进行冲洗，以中和硫酸。如果出现严重症状，如呼吸困难或持续疼痛，应立即就医。在处理钛靶中毒时，需要注意避免直接接触硫酸。硫酸是一种强酸，具有强烈的腐蚀...
在全新的MAIP微弧离子镀技术中,高于正常溅射强度的微弧放电状态更容易使如Ti等较活泼的金属靶材表面在离子镀过程中与反应性气体反应生成化合物,从而导致靶中毒,轻者镀层质量劣化,重者损坏电源。为了避免此类惨剧的发生,我公司自主开发的反应性气体动态流量控制软件,可以实现反应性气体的脉冲式进气,在靶材表面未生成大量...