(一)物理 - 化学复合镀膜 如 PVD-CVD 联用技术，先溅射打底增强结合力，再 CVD 沉积功能层，应用于高速钢钻头表面 TiAlN+Al₂O₃复合涂层。(二)溶液前驱体法 通过溶胶 - 凝胶(Sol-Gel)工艺，将金属盐溶液涂覆后热处理成膜，用于制备纳米多孔 TiO₂光催化膜。五、工艺对比与选型指南 六、结语 金属表面
1、磁控溅射（Magnetron Sputtering）：这是一种广泛应用的PVD工艺，通过在真空环境下使用磁场激发离子，使...
常见的真空镀膜工艺有哪些? 常见的真空镀膜工艺包括电子束蒸发镀膜、溅射镀膜和离子辅助镀膜等,同时还包括一些真空镀膜其他变种如磁控溅射、反应溅射、离子束辅助沉积(IBAD)等! 1.电子束蒸发镀膜:利用电子束加热蒸发源,使镀膜材料气化并沉积在滤光片基底上。这种方法能够精确控制蒸发速率和膜厚,使其具有高蒸发速率、可...
镜面工艺中的镀膜技术主要有物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、电镀镀膜等,不同的镀膜技术及膜层对镜面性能产生不同的影响。 物理气相沉积(PVD)是在真空环境下,通过加热、蒸发、溅射等方式使镀膜材料气化成原子或分子,然后沉积在镜面上形成薄膜。PVD 技术包括真空蒸镀、溅射镀膜、离子镀膜等...
在线镀膜玻璃生产线如图1所示。2，固体粉末喷涂法 喷涂镀膜技术是将一种或多种反应气体或有机金属盐化合物溶液的雾化颗粒或有机金属盐粉末喷涂于热玻璃表面而热分解成膜的工艺方法。固体粉末喷涂法最初是由美国Ford汽车公司于20世纪80年代初应用于浮法生产线上的一种镀膜方法，固体粉末喷涂法的工艺流程如图2所示 固体...
2、真空离子镀，又称真空镀膜：一般适用范围较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品。同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵。现对其工艺流程作简要介绍：产品表面清洁、去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装。真空电镀可分为一般真空电镀、UV真空电镀、...
下面为您介绍几种常见的PVD真空镀膜工艺。 1. 物理气相沉积中的蒸发镀膜 蒸发镀膜是PVD真空镀膜中较为基础的一种工艺。其原理是将待镀材料放置在蒸发源中,通过加热使材料蒸发。当材料达到足够高的温度时,原子或分子获得足够的能量,克服材料内部的结合力,从固态转变为气态并逸出。这些气态原子或分...
一些镀膜可以改变玻璃的颜色、反射率和透光率等特性，具有很好的装饰效果。总之，玻璃镀膜可以用于各种场合，以满足不同的使用要求。玻璃镀膜工艺流程主要有以下步骤：1、清洗玻璃表面 在镀膜之前，需要确保玻璃表面是干净的。通过清洗去除表面的灰尘、油脂和其他污染物，以确保薄膜能够均匀地附着在玻璃表面。2、干燥玻璃...
磁控溅射镀膜是在真空中利用辉光放电产生的等离子体将靶材表面的原子轰击出来,并沉积到基底表面形成薄膜的一种镀膜技术。这种技术凭借其镀膜均匀性好、附着力强等优点,在众多领域得到广泛应用。以下为您详细介绍一些常见的磁控溅射镀膜工艺。 直流磁控溅射工艺 直流磁控溅射是磁控溅射镀膜中较为基础和...