脉冲激光沉积(PLD)是用于薄膜沉积的通用工艺,其主要优点是将材料按化学计量从靶转移到基板。SURFACE PLD-Workstation是薄膜的优秀原型设计和研究系统,可轻松获取新材料,特别是复杂氧化层。 PLD-Workstation将PLD系统的所有组件(包括激光和激光气体供应)集成到一个框架中。紧凑的设计使系统的使用灵活,并避免了许多硬件安...
脉冲激光沉积 (PLD)原理 整个PLD镀膜过程通常分为三个阶段。 1.激光与靶材相互作用产生等离子体。 激光束聚焦在靶材表面,在足够高的能量密度下和短的脉冲时间内,靶材吸收激光能量并使光斑处的温度迅速升高至靶材的蒸发温度以上而产生高温及烧蚀,靶材汽化蒸发,有原子、分子、电子、离子和分子团簇及微米尺度的液滴、固...
脉冲激光沉积是一种使用激光脉冲将材料从目标上脱落并沉积于基底上的过程。其基本原理可以简单描述为以下几个步骤: 1.激光脉冲照射:以高能量激光脉冲照射材料目标表面,产生高温和高压的条件。 2.目标脱落:激光脉冲作用下,原子级别的张力差使得目标表面的材料脱落。 3.沉积过程:脱落的材料以原子、分子或团簇形式在基底...
脉冲激光沉积 (PLD) 用来在多种基材上沉积各种薄膜。 准分子激光器能量高、波长短,具备极佳的沉积率,可用于沉积具有优良化学计量数的高质量薄膜。 脉冲激光沉积 (PLD)是一种物理气相沉积 (PVD) 技术,用于在真空下将薄膜沉积到基材上。 在 PLD 中,激光脉冲照射到目标材料上使其汽化,并产生一股汽化材料。 然后,...
但近年来,脉冲激光沉积(PLD) 已成为许多新兴薄膜应用的首选技术,从纯粹的实验室研究工具过渡到支持现如今的批量制造。让我们一起来看看 PLD 的工作原理、主要优点和一些有趣的应用。 在PLD中,将一块固体薄材料(称为靶材)放置在真空室内,靠近要沉积薄膜的基板。然后,根据材料的特性,可以选择工作波长为 193nm、248...
脉冲激光沉积系统（PLD）在半导体行业的应用已成为推动该领域发展的关键技术之一。PLD技术能够精确控制薄膜的成分和结构，制备出高纯度、高质量的半导体薄膜。例如，在制备单晶硅薄膜方面，PLD技术表现出显著优势，可用于沉积绝缘层和掺杂层，从而提高芯片的性能和可靠性。此外，在太阳能电池制造过程中，PLD技术可以用来沉积...
脉冲激光沉积的优点有: 1.由于激光光子能量很高,可溅射制备很多困难的镀层:如高温超导薄膜,陶瓷氧化物薄膜,多层金属薄膜等;PLD可以用来合成纳米管,纳米粉末等 2.PLD可以非常容易的连续融化多个材料,实现多层膜制备 3.PLD可以通过控制激光能量和脉冲数,精密的控制膜厚。 脉冲激光沉积对激光器的要求有: 1.尽可能避免...
下面对于脉冲激光沉积系统PLD检漏方法如下：1.启动 A100，进入待机界面，启动时间≤ 2min；2. 设定真空模式检漏，并设定报警值，将设备通过波纹软管连接检漏仪A100，确认连接完毕；3.按下开始键，检漏仪对设备内部抽真空，到达一定压力检漏仪开始工作，同时在设备怀疑有漏的地方喷氦气(腔体，焊缝，连接处)。若有漏，...
脉冲激光沉积能够生长高质量的氧化物薄膜,是目前人们生长磁性氧化物薄膜的重要手段之一。常用的脉冲激光沉积系统主要由紫外KrF准分子激光器(波长248 nm)、聚焦光路、带有真空系统和气氛控制系统的腔体、基片加热台和旋转靶托组成。 脉冲激光沉积系统沉积薄膜的靶材为...