脉冲激光沉积(PLD)是用于薄膜沉积的通用工艺,其主要优点是将材料按化学计量从靶转移到基板。SURFACE PLD-Workstation是薄膜的优秀原型设计和研究系统,可轻松获取新材料,特别是复杂氧化层。 PLD-Workstation将PLD系统的所有组件(包括激光和激光气体供应)集成到一个框架中。紧凑的设计使系统的使用灵活,并避免了许多硬件安...
脉冲激光沉积系统（PLD）在半导体行业的应用已成为推动该领域发展的关键技术之一。PLD技术能够精确控制薄膜的成分和结构，制备出高纯度、高质量的半导体薄膜。例如，在制备单晶硅薄膜方面，PLD技术表现出显著优势，可用于沉积绝缘层和掺杂层，从而提高芯片的性能和可靠性。此外，在太阳能电池制造过程中，PLD技术可以用来沉积...
意克赛准分子激光器是 PLD 应用的优先选择,特别是中功率准分子激光器-LL20,其单脉冲能量最高可达 800mJ,重复频率达 30Hz 以上等,这些特性使其成为PLD技术中的理想光源。 PLD 的应用场景高温超导带材 多层高温超导 (HTS) 带材包含 PLD 沉积的稀土氧化钡铜 (REBCO) 超导层,是用于聚变、MRI 和粒...
脉冲激光沉积系统(PLD) 产品应用 半导体薄膜生长陶瓷氧化物生长铁电薄膜生长高温超导材料生长 联系我们在线订购 产品介绍 脉冲激光沉积,是一种利用激光高能量脉冲辐射冲击固体靶时,激光与物质之间的所有物理相互作用,亦包括等离子羽状物的形成,其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移,及最后物质沉淀在...
脉冲激光沉积能够生长高质量的氧化物薄膜,是目前人们生长磁性氧化物薄膜的重要手段之一。常用的脉冲激光沉积系统主要由紫外KrF准分子激光器(波长248 nm)、聚焦光路、带有真空系统和气氛控制系统的腔体、基片加热台和旋转靶托组成。 脉冲激光沉积系统沉积薄膜的靶材为...
下面对于脉冲激光沉积系统PLD检漏方法如下：1.启动 A100，进入待机界面，启动时间≤ 2min；2. 设定真空模式检漏，并设定报警值，将设备通过波纹软管连接检漏仪A100，确认连接完毕；3.按下开始键，检漏仪对设备内部抽真空，到达一定压力检漏仪开始工作，同时在设备怀疑有漏的地方喷氦气(腔体，焊缝，连接处)。若有漏，...
薄膜制造广泛应用于各种晶圆市场，例如 MEMS、半导体、光伏、OLED 显示屏和 RF 前端滤波器。 工业晶圆尺寸高达 300 mm 的成熟 PLD 工艺使系统供应商能够扩展他们的能力和薄膜复杂性/功能，超越了溅射、原子层沉积或化学气相沉积等现有方法。固态薄膜电池 基于固体电解质的电池有望为不断增长的电动汽车市场提供更远的...
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PLD 系统需要高真空环境, 腔室是否有泄漏, 是否有内部材料放气等因素对实现高真空及超高真空很关键。 因此需要对整个系统进行泄漏检测,氦质谱检漏仪利用氦气作为示踪气体可精确定位, 定量漏点,因此广泛应用于 PLD 设备检漏。脉冲激光沉积系统 PLD 检漏方法如下: ...