所谓脉冲 激光 沉积技术是将脉冲准分子激光所产生的高功率脉冲激光束聚焦作用于真空室内的靶材表面,使靶在极短的时间内加热熔化、气化直至使靶材表面产生高温高压等离... 所谓“脉冲激光沉积技术”是将脉冲准分子激光所产生的高功率脉冲激光束聚焦作用于真空室内的靶材表面,使靶在极短的时间内加热熔化、气化直至使靶材...
本发明属于新型铁基超导体领域,具体涉及一种利用脉冲激光沉积镀膜技术制备铁硒碲薄膜的方法.首先将Fe,Se,Te粉末按一定的摩尔比混合研磨均匀;其次将研磨后的粉末在真空石英管中700℃烧结24小时,400℃时进行淬火处理,再次研磨成粉,压制成所需靶材的大小后在真空石英管中700℃烧结24小时,400℃时进行淬火处理;调整激光器...
摘要 本发明属于新型铁基超导体领域,具体涉及一种利用脉冲激光沉积镀膜技术制备铁硒碲薄膜的方法。首先将Fe、Se、Te粉末按一定的摩尔比混合研磨均匀;其次将研磨后的粉末在真空石英管中700℃烧结24小时,400℃时进行淬火处理,再次研磨成粉,压制成所需靶材的大小后在真空石英管中700℃烧结24小时,400℃时进行淬火处理;调...
超高真空脉冲激光沉积镀膜系统 一、系统的主要组成及技术指标 系统由真空腔室(外延室、进样室)、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。 1、★★外延室: 极限真空优于:5.0x10-8Pa 真空漏率小于2.0x10
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脉冲激光沉积镀膜系统产地:; 品牌: 北京英格海德分析技术有限公司 其他会员 进入商铺 全部产品 推荐产品 分子束外延 镀膜系统 产品描述 仪器简介: PASCAL 的 PLD MBE 系统的主体是一个UHV激光分子束外延装置。使用准分子激光进行基底加热;脉冲激光做为幅照源。使用两个组合的掩膜和一个扫描式的反射高能电子衍射...
脉冲激光沉积薄膜射频等离子体介绍了脉冲激光沉积(PLD)制备薄膜的原理,讨论了射频辅助脉冲激光沉积镀膜技术的特点,通过分析比较证实了射频辅助脉冲激光沉积比无射频辅助脉冲激光沉积具有更突出的优点.doi:CNKI:SUN:WHSP.0.2006-03-028纠智先武汉工业学院数理科学系;武汉工业学院数理科学系 湖北武汉430023;湖北武汉430023李强...
脉冲激光沉积薄膜射频等离子体介绍了脉冲激光沉积(PLD)制备薄膜的原理,讨论了射频辅助脉冲激光沉积镀膜技术的特点,通过分析比较证实了射频辅助脉冲激光沉积比无射频辅助脉冲激光沉积具有更突出的优点.doi:10.3969/j.issn.1009-4881.2006.03.029纠智先武汉工业学院李强武汉工业学院武汉轻工大学学报射频辅助脉冲激光沉积镀膜技术的...
超高真空脉冲激光沉积镀膜系统 一、 系统的主要组成及技术指标 系统由真空腔室(外延室、进样室)、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。 1、 ★★外延室: 极限真空优于:5.0x10-8Pa 真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S 1.1、 ★真空室组件:1套 真空室采用...