1、性质不同:二次电子像是以入射方向逸出样品的电子。背散射电子像是在扫描电子显微镜中,通过电子枪产生的电子,经过加速磁场、偏转磁场后,照射到待检测的样品表面,待检测样品会反射一部分的电子。 2、特点不同:在扫描电子显微镜的工作镜腔里的背散射电子探头就会检测到这些被反射的电子,进而在检测器上所成的像。二...
二次电子常用作扫描电子显微镜的成像信号。二次电子的特征: 1) 二次电子能量较低。2) 对样品表面化状态十分敏感,能有效地反映样品表面的形貌3)产额与原子序数间没有明显关系,不能进行成分分析。4)来自表层5~100nm深度范围3.背散射电子发射系数η随原子序数增加而增大,变化显著,背散射电子发射系数和试样表面倾角...
由此可知,二次电子与背散射电子的形成机理及特征并非固定,与检测条件变化关系密切,应结合具体情况选择优化。但总的来说,二次电子更擅长表现形貌,背散射电子更擅长表现组成与结构。 五、小结 通过上述讨论可以看出,背散射电子和二次电子的产生机制及特征并不像简单理论模型那样非黑即白。二者的转换与重合较多,特征也会...
背散射电子:被试样反弹回来的入射电子,包括弹性背散射电子和非弹性背散射电子。用途:在扫描电镜中,用其获取试样的表面形貌像和成分像。 ___在入射电子的撞击下,脱离原子核的束缚,逸出试样表面的自由电子。 用途:在扫描电镜中用其获取试样的表面形貌像。 何谓特征X-射线:当电子束轰击试样表面时,有的电子可能与试样...
由上可知,二次电子主要反映了样品局部表面状态,是评价样品形貌的重要信号。 二次电子的一些关键特征还包括: (1)能量低(<50eV) ,大部分在10eV以下; (2)逸出深度极浅,在10nm左右; (3)方向分布无明确定向性。 图 二次电子的产生机理和特点 由上可知,背散射电子和二次电子都没有确定的方向分布特征。但在能量...
在材料表面分析中,常用的电子探针包括背散射电子和二次电子。他们有着不同的物理特性,理解它们之间的区别对于正确地应用和解释表面分析结果至关重要。 1.背散射电子的分类 背散射电子是一种能量低、散射角度大的电子,在材料表面进行测量时,通过底部衍射器从样品反射的电子被检测到。背散射电子可以按其散射深度和散射...
早在上世纪三十年代,已经开发了第一批二次电子能谱设备,主要利用电子波谱学中的二次衍射效应来测量材料中各种电子结构。 背散射电子能谱(BES)是一种电子光谱学方法,它使用若干个原子来分析材料的结构信息。这种电子能谱技术的优点是能够测量材料中的电子团的类型及微观结构状态,以及电子团与其他结构间的相互作用,这...
答:二次电子像: 1)凸出的尖棱,小粒子以及比较陡的斜面处SE产额较多,在荧光屏上这部分的亮度较大。 2)平面上的SE产额较小,亮度较低。 3)在深的凹槽底部尽管能产生较多二次电子,使其不易被控制到,因此相应衬度也较暗。 背散射电子像 1)用BE进行形貌分析时,其分辨率远比SE像低。 2)BE能量高,以直线轨迹...
解析 答案:二次电子是被入射电子轰击出来的样品核外电子,背散射电子是被样品中原子反射出来的一部分入射电子;二次电子产率主要与入射电子束和样品表面法线方向所形成的夹角有关,背散射电子产率主要与样品中原子的原子序数有关。二次电子像反映样品的表面形貌信息,而背散射电子像反映样品表面化学组成分布的信息。
扫描电镜中的二次电子和背散射电子是两种不同的成像信号,它们在扫描电镜中有着各自的特点和应用。 铄思百检测电镜设备 二次电子成像: 二次电子是指从样品表面逸出的电子,这些电子的能量通常低于50电子伏特,主要来源于样品表面1~10纳米深度范围内。 二次电子成像的分辨率较高,因为它对样品表面的几何形貌非常敏感,能...