1. 系统结构：聚焦离子束系统的核心是离子柱，位于样品室顶部，包含液态金属离子源、聚焦装置、束流限制和偏转装置等。样品室内设有五维可调样品架，实现多方向分析和处理。2. 工作原理：离子柱尖端的液态离子源在强电场作用下提取带有正电荷的离子，通过静电透镜和四极/八级偏转装置进行聚焦和扫描。系统在高真空状态下...
聚焦离子束-电子束双束系统FIB Scios DualBeam Scios 2 ThermoFisher Scientific 技术参数: 1.电子束电流范围:1 pA - 400 nA; 2.电子束电压:200eV-30 keV,具有减速模式 3.电子束分辨率:0.7 nm (30 keV)、1.4 nm(1 keV) 4.大束流Sidewinder离子镜筒; 5.离子束加速电压500V-30kV(分辨率:3.0 nm); 6...
最近,美国科学家发明了一种能同时聚焦离子束(通常为带正电荷的阳离子)和电子束的新系统,将离子束技术的运用范围和效率又往前推进了一步.焦集的离子束在半导体行业有着重要作用,可用来切割纳米级结构,对光刻技术中的屏蔽板进行修补,分离和分析集成电路的各个元件,激活由特殊原子组成的材料,使其具有导电性等等.光学...
项目编号:ZG-ZWG-2023066/2758-234ZGZB23066 项目名称:哈尔滨工程大学聚焦离子束-电子束曝光系统(FIB-EBL)采购项目 预算金额:880.000000 万元(人民币) 最高限价(如有):880.000000 万元(人民币) 采购需求: 聚焦离子束-电子束曝光系统(FIB-EBL)一套 合同履行期限:合同签订后12个月内完成所有设备到货,所有设备调试...
蔡司MeRiT聚焦离子束高精度电子束应用 成熟制程中掩模的图形缺陷(多为硬缺陷)修补主要依赖两种方法:激光烧蚀(Laser ablation)和聚焦离子束(Focused Ion Beam, FIB)。 它们可用于去除多余的图形,即在显微镜下把激光数聚焦在多余图形上,使之气化脱离掩模表面;也可用于填补缺失的图形,即在显微镜下把激光或离子束(如Ga+...
光学系统包括离子源和离子镜筒等.离子源采用液态金属镓(Ga)离子源.聚焦离子束的主要作用是对样品进行刻蚀和辅助材料沉积.此外还可以利用离子束进:行成像,其分辨率可以达到5nm.对于FEI公司Nova系列NanoLab双束显微镜,聚焦离子束最小刻蚀线宽小于15nm,深宽比为10:1,电子束和离子束沉积线宽分别达到20nm和50nm.双束...
与蔡司 X射线显微镜相比,双束系统使完成横跨几个数量级的全面标本分析成为可能。X射线显微镜先是提供未破坏样品的3D形貌,之后用聚焦离子束处理并用电子束分析感兴趣的特定区域。
招标范围:聚焦离子束-电子束曝光系统(FIB-EBL)一套 招标机构:黑龙江中冠项目管理有限公司 招标人:哈尔滨工程大学 开标时间:2023-11-28 09:30 公示开始时间:2023-11-28 15:31 评标公示截止时间:2023-12-01 23:59 中标候选人名单: 候选人排名投标商名称制造商制造商国别及地区 1 沈阳五衡实业有限公司 详见投标...
聚焦离子束电子束双束系统用于高质量定点双球差TEM样品制备；金属、半导体、电介质、多层膜结构等固体样品上制备微纳结构；化学和晶体结构三维形态分析；离子束刻蚀、离子束沉积、电子束沉积；可进行金属样品的沉积等功能。二工作条件：1电压：230V(-6%,+10%)2环境温度：20°C(+/-4°C)3相对湿度：<80%RH 4...
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