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感应耦合等离子体刻蚀机是一种用于信息科学与系统科学领域的工艺试验仪器，于2013年3月26日启用。技术指标 刻蚀均匀性≤5％，金属刻蚀对氧化物及硅选择比≥3。主要功能 等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了...
什么是等离子体刻蚀机?#科技 #芯片 #朱士尧 272 10 14 2 举报发布时间:2024-08-31 20:13 全部评论 大家都在搜: 用户9863147915662辉 ... [赞][赞][赞][赞][赞][赞] 2小时前·重庆 0 分享 回复 黑猫507 ... [赞] 6小时前·北京 1 分享 回复 他 ... [赞][鼓掌][鼓掌] 6小时前·江苏 1...
等离子体刻蚀是太阳能电池片生产工艺中的一项关键技术,它的效果直接影响太阳能电池的漏电流和开路电压,继而影响电池的转换效率。与现在生产线上普遍使用的老式等离子体刻蚀机相比,它大大提高了生产产能,减少了设备维护工作量。 等离子体刻蚀设备组成 等离子刻蚀设备由反应室、真空系统、射频电源及匹配系统、工艺气路系统、...
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等离子体刻蚀是太阳能电池片生产工艺中的一项关键技术,它的效果直接影响太阳能电池的漏电流和开路电压,继而影响电池的转换效率。与现在生产线上普遍使用的老式等离子体刻蚀机相比,它大大提高了生产产能,减少了设备维护工作量。 等离子体刻蚀设备组成 等离子刻蚀设备由反应室、真空系统、射频电源及匹配系统、工艺气路系统、...
射频等离子体蚀刻机简介Quorum K1050X RF等离子桶式反应器设计用于等离子蚀刻,等离子灰化和等离子清洁应用。射频等离子体可对各种样品和基板进行低温修饰。等离子体蚀刻通常*于半导体行业,因为Quorum K1050X可以用于使用反应气体(例如CF 4) 去除硅层,以及用于使用氧气去除光刻胶。 等离子灰化是指使用氧气或空气对有机材料...