溅射附着性能好,易于保持化合物、合金的组分比 缺点 需要溅射靶,靶材需要精制,而且利用率低,不便于采用掩膜沉积 3、离子镀 离子镀是在真空环境中,利用高压气体放电将镀料蒸发后离子化,沉积在产品表面形成镀膜的过程。 采用离子镀工艺后,镀层质量很好,镀层组织致密,不会产生针孔、气泡等常规镀层,产品表面厚薄均匀,甚至...
百度试题 题目PVD法包括:真空蒸镀法、阴离子溅射法和___三种。相关知识点: 试题来源: 解析 离子镀法 反馈 收藏
镀膜设备主要涉及 PVD、PRD、ALD 三种,PVD 技术又分为真空蒸镀法、溅射法和离子镀法。背电极 主要使用蒸镀 PVD,目前已经比较成熟,还可使用 PRD 等离子反应设备制作。电子传输层主流使用RPD设备,或先用 RPD 或 ALD 设备制作阻隔层,再用溅射 PVD 做传输层。空穴传输层主流使用溅射 PVD,也可使用蒸镀 PVD;玻璃基...
粒子具有的动能不同:蒸镀膜所沉积的粒子有较低的动能,而溅射出来的粒子有很高的动能,比蒸发高1～2个数量级。 粒子飞向基体表面的分布规律不同:对于小面积蒸发源,气相原子飞向基体表面时按余弦定律分布。对于阴极溅射,靶是多晶材料且入射氩离子较大时符合余弦分布规律,但对单晶靶材,则产生择优溅射效应,不同晶面的...
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真空镀包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀,三种形式都不是在真空中镀覆的工艺方法。() 点击查看答案 第2题 物理气相沉积可分为真空蒸镀、阴极溅射和离子镀三类。() 点击查看答案 第3题 气相沉积技术工艺方法有A真空蒸镀B溅射镀C离子镀D化学气相沉积 气相沉积技术工艺方法有 A真空蒸镀 B溅射镀 C离子镀 D化学气...
溅射仪是用于在各种金属薄膜上溅射蒸镀的仪器,它通过在惰性气体或活性气体中施加直流电压,产生辉光放电,使离子碰撞蒸发材料靶上,从而使靶材原子蒸发并凝结或与气体反应形成纳米颗粒。溅射仪包括磁致溅射仪、高真空离子溅射仪和多功能高精度磁控溅射仪等类 - 郑州科探仪