溅射附着性能好,易于保持化合物、合金的组分比 缺点 需要溅射靶,靶材需要精制,而且利用率低,不便于采用掩膜沉积 3、离子镀 离子镀是在真空环境中,利用高压气体放电将镀料蒸发后离子化,沉积在产品表面形成镀膜的过程。 采用离子镀工艺后,镀层质量很好,镀层组织致密,不会产生针孔、气泡等常规镀层,产品表面厚薄均匀,甚至...
镀膜设备主要涉及 PVD、PRD、ALD 三种,PVD 技术又分为真空蒸镀法、溅射法和离子镀法。背电极 主要使用蒸镀 PVD,目前已经比较成熟,还可使用 PRD 等离子反应设备制作。电子传输层主流使用RPD设备,或先用 RPD 或 ALD 设备制作阻隔层,再用溅射 PVD 做传输层。空穴传输层主流使用溅射 PVD,也可使用蒸镀 PVD;玻璃基...
粒子具有的动能不同:蒸镀膜所沉积的粒子有较低的动能,而溅射出来的粒子有很高的动能,比蒸发高1～2个数量级。 粒子飞向基体表面的分布规律不同:对于小面积蒸发源,气相原子飞向基体表面时按余弦定律分布。对于阴极溅射,靶是多晶材料且入射氩离子较大时符合余弦分布规律,但对单晶靶材,则产生择优溅射效应,不同晶面的...
溅射镀膜、离子镀膜和真空蒸镀均属于化学气相沉积表面覆层技术A.正确B.错误的答案是什么.用刷刷题APP,拍照搜索答疑.刷刷题(shuashuati.com)是专业的大学职业搜题找答案,刷题练习的工具.一键将文档转化为在线题库手机刷题,以提高学习效率,是学习的生产力工具
真空镀包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀,三种形式都不是在真空中镀覆的工艺方法。() 点击查看答案 第2题 物理气相沉积可分为真空蒸镀、阴极溅射和离子镀三类。() 点击查看答案 第3题 气相沉积技术工艺方法有A真空蒸镀B溅射镀C离子镀D化学气相沉积 气相沉积技术工艺方法有 A真空蒸镀 B溅射镀 C离子镀 D化学气...
物理气相沉积工艺是一般在真空条件下,包括以下几种类型,通过溅射方式在物体表 面沉积各种金属和非金属薄膜。A.真空蒸镀B.溅射镀C.离子镀D.纳米喷镀
简述热蒸镀(真空蒸发)膜与离子溅射膜的区别和优缺点。的答案是什么.用刷刷题APP,拍照搜索答疑.刷刷题(shuashuati.com)是专业的大学职业搜题找答案,刷题练习的工具.一键将文档转化为在线题库手机刷题,以提高学习效率,是学习的生产力工具
a离子镀是一种在低气压放电条件下,将蒸发出来的镀料粒子部分电离,形成离子、原子、分子和其它中性粒子集团,再经过扩散和电场作用轰击,沉积在施加有负偏压的基体(工件)上,或者与基片附近活化、分解、电离的反应气体相互作用,在基片上沉积出化合物薄膜的技术。离子镀技术是在真空蒸镀和真空溅射的基础上发展起来的,产生...