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真空溅镀，即真空溅射镀膜，通过高能离子（如氩离子等）轰击靶材，使靶材表面原子或分子溅射出来，并沉积在基底材料表面形成薄膜，由于是通过在真空室内产生等离子体，且加速离子能量较高，撞击靶材时溅射原子在沉积时具有更高的动能，形成的薄膜变得更致密且均匀性较好，分布均匀，附着力也较强。（溅射镀膜）工艺特点不...