半导体的工艺水平突飞 猛进，光刻工艺已经进入了纳米级别。电子束曝光是光刻工艺中的一种。普通光学曝光的分辨率受到光子在波长尺度上的散射影响。使用的光波长越短，光刻能够达到的精度越高。常用的紫外光波长在200～400nm 之间，因此在进入纳米级别的加工时，普通的光刻技术越来越受到限制。根据德布罗意的物质波理 ...
电子束直写曝光机的原理与常见问题分析