1、电子束物理气相沉积(EB-PVD)金属灯丝在高温状态下内部的一部分电子获得足够大的能量时会溢出金属表面，发射出热电子，热电子在电磁场作用下高速运动，形成电子束轰击靶材表面，电子的动能变成热能，使材料表面快速升温而蒸发。20世纪60年代，乌克兰巴顿电子焊接研究所在采用EB-PVD设备制备厚膜及体材料技术方面做了深入...
9、所述清洗步骤如下:将电子束物理气相沉积玻璃微球包覆铁钴镍基高熵吸波涂层浸泡在10±5%水基清洗剂中清洗30±5min,之后将电子束物理气相沉积玻璃微球包覆铁钴镍基高熵吸波涂层置于去离子水中浸泡30±5min。 10、优选地,水基清洗剂为ph为7±0.5的脱脂剂。 11、所述脱水和干燥步骤如下:将电子束物理气相沉积玻璃...
CVD基体太阳能火箭发动机挥发源沉积速度涂层球形件生产铢部件电子束电子束物理气相沉积法耐蚀性能能源装置金属铢铢高温结构件 关键词热度 涂层 相关文献总数 26269 (/次) 1,00005001,0001,500L1997199819992000200120022003200420052006200720082009201020112012201320142015201620172018201920202021 (/年) 文献信息 篇名 生产铼部件的电子...
1.一种通过电子束物理气相沉积法制备的ZrO2热障涂层,其特征在于,该ZrO2热障涂层包含以下原料: 30～35g的大比表面积稳定纳米ZrO2粉体, 4～6g的稳定剂; 其中,所述稳定剂为Lu2O3、In2O3、Al2O3和TiO2的混合物,混合物中Lu2O3、In2O3、Al2O3和TiO2的摩尔比为1:1:1:1 其中,所述大比表面积稳定纳米...
电子束物理气相沉积(EB-PVD)是以电子束作为热源的一种真空蒸发镀膜方法,即在高真空条件下,利用高能量密度的电子束轰击靶材表面,使之熔化、蒸发并在基片上沉积形成薄膜。与其他薄膜制备技术相比,EB-PVD技术具有蒸发速率快和薄膜质量好等优势。 本文首先介绍了SiC薄膜的结构、理化性质和光电性质,并对SiC薄膜的研究历史...
步骤六:将陶瓷压坯在1100～1300℃下烧结5～15h,制成电子束物理气相沉积用靶材。 进一步的,氧化锆基陶瓷靶材含有多元稳定剂时,Gd2O3和Yb2O3的摩尔比为1:1。 进一步的,步骤一中所述的原料粉末均使用化学共沉淀法制备,且原料粉末经过喷雾干燥处理。 进一步的,步骤一中所述的原料粉末平均粒径小于20nm,纯度大于99.9...
金融界2025年1月28日消息,国家知识产权局信息显示,成都晨发泰达航空科技股份有限公司取得一项名为“一种电子束物理气相沉积EB-PVD制备热障涂层装置及方法”的专利,授权公告号CN 119040812 B,申请日期为2024年10月。 天眼查资料显示,成都晨发泰达航空科技股份有限公司,成立于2016年,位于成都市,是一家以从事航空运输业...
成都晨发泰达航空科技股份有限公司申请一项名为"一种电子束物理气相沉积EB-PVD制备热障涂层装置及方法"的专利,申请日期为2024-10-30。专利摘要显示,本发明公开了一种电子束物理气相沉积EB‑PVD制备热障涂层装置及方法,属于热障涂层技术领域,包括装料室,装料室与沉积
摘要: 本发明公开了一种用电子束物理气相沉积多孔树枝晶陶瓷层的热障涂层方法,它是在镍基高温合金基体表面依次沉积一层粘结层材料和具有微孔多孔树枝晶结构的陶瓷层材料。该制备方法通过控制两个不同组分料棒A和料棒B的蒸发沉积工艺参数使陶瓷层具有较低的导热系数,有效地提高了在高温环境下热障涂层服役寿命。
摘要 本发明提供了一种电子束物理气相沉积用锆酸镧基陶瓷靶材及其制备方法。本发明通过球磨再砂磨的方式实现原料粒径的纳米化,并且结合两次烧结方式,在初级烧结过程实现混合氧化物间不同氧化物的固相反应,得到锆酸镧基材料,经后续粉碎、成型以及水分和粘结剂的使用,确保颗粒间的间隙和距离,达到较低的密度,结合所...