对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的量产用干法刻蚀装置。(可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子) 购买咨询 若想了解更多请致电182-2185-4021 产品特性 / Product characteristics ...
日本ULVAC爱发科半导体光电干法刻蚀设备 用于光电器件和MEMS的干法刻蚀设备NLD-5700 用于光器件和MEMS的NLD-5700干法刻蚀系统是配备磁中性线等离子体(NLD)源的用于大规模生产的干法刻蚀系统。 (采用磁中性线等离子体(NLD)的低压、低电子温度、高密度等离子体的干式蚀刻设备,由ULVAC原创开发。) 特征 通过在洁净室内工作,...
刻蚀设备:NLD-5700对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的量产用干法刻蚀装置。(此爱发科独创的NLD技术设备可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子)具体购买政策请致电:0512-86669111-8150 李女士13913550251(沈先生) ...