规范用词对准精度 英文翻译alignment precision 所属学科电子学>电子元器件工艺与分析技术 名词审定电子学名词审定委员会 见载刊物《电子学名词》 科学出版社 公布时间1993年 电子元器件工艺与分析技术 的上级学科 电子学
高精度掩膜对准光刻机是一种用于农学、生物学、化学、物理学领域的分析仪器，于2017年11月7日启用。技术指标 支持4英寸晶圆；曝光波长：350-450nm；曝光灯功率：350W；分辨率：优于0.8mm（光刻胶厚度1微米时）；套刻精度：0.5mm；光强均匀度：优于±2％；更换汞灯后及汞灯全寿命周期内无需均匀性校正；曝光模式...
图1是主流光刻机ASML中对准系统示意图，对准系统使用He-Ne激光，激光束经镜子反射后，照射在晶圆表面。对准系统的主要功能就是将工件台上硅片的标记与掩膜版上的标记对准，并具有一定精度，因为一片硅片在一个工艺流程中的曝光次数可能达到几十次次，而对准精度直接影响硅片的套刻精度，所以硅片的对准精度非常的关键...