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河南反应磁控溅射设备是一种新型的物质表面处理设备,其原理是利用高能量的离子束轰击靶材,将靶材中的原子或离子溅射到基底表面上,形成一层薄膜。与传统的溅射技术相比,河南反应磁控溅射设备具有更高的效率和更好的控制性能。 二、河南反应磁控溅射...
摘要 本实用新型实施例公开了一种磁控溅射反应腔室的冷却组件及其磁控溅射设备,其中的组件包括适配器;适配器被设置为遮蔽内衬的底部和侧壁,用于将内衬固定在反应腔室内;适配器的侧壁与内衬的侧壁之间具有预设的间隙,适配器的底部与内衬的底部相接触,适配器设置有冷却水道,用以对内衬的侧壁、底部进行降温。本实用新型...
摘要 本实用新型公开了一种中频反应磁控溅射镀膜设备,所述设备包括设备支架、真空腔体和电源柜,所述真空腔体固定在设备支架的上方,所述真空腔体前端设置有离子源,后端中部与离子源相对的位置设置有中频孪生靶,在真空腔体的外侧顶部设置有分子泵;所述真空腔体内部下方设置有基片转台,所述基片转台上设置有至少一个基片架...
摘要 本发明公开了一种反应腔室和磁控溅射设备,该反应腔室包括腔体,腔体内平行设置有若干个竖直放置的靶材,相邻靶材之间设置有进气管道,进气管道的一端设置有第一进气口,进气管道的管道壁上设置有若干个出气孔,溅射气体从第一进气口通入进气管道并通过出气孔进入到腔体内,本发明的技术方案通过在相邻靶材之间设置进气管...
摘要 本发明公开了一种磁控溅射反应设备,包括溅射机构、样品架和步进电机;溅射机构包括靶材,用于对基片上的样品进行磁控溅射;样品架包括周向均匀分布的多个基片固定座,基片固定座用于固定负载样品的基片;基片固定座与步进电机传动连接,步进电机动作使基片固定座依次转动至与靶材相对应。本发明具有的优点包括:通过步进电机连...
中频反应磁控溅射制备二氧化硅膜设备专利信息由爱企查专利频道提供,中频反应磁控溅射制备二氧化硅膜设备说明:一种中频反应磁控溅射制备二氧化硅膜设备,包括真空镀膜室、双靶、反应气体供气管道、工作气体供气管...专利查询请上爱企查
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一种中频反应磁控溅射制备二氧化硅膜设备,包括真空镀膜室、双靶、反应气体供气管道、工作气体供气管道、中频电源、压电阀控制器和压电阀,双靶装在屏蔽罩内,真空镀膜室内的反应气体供气管道位于双靶的对称中心线上,中频电源的两个输出端各接到一个靶上,中频电源的控制线接压电阀控制器,压电阀控制器的输出控制反应气体...
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