在利用化学气相沉积方法(chemical vapor deposition, CVD)制备二维材料之前, 机械剥离和液相剥离是人们获得单层或少层二维材料的常用方法. 机械剥离可以得到较高结晶质量的二维材料, 但是产量低, 层数难以控制且产物面积小, 不适用于大面积应用. 液相剥离可以低成本制备较大量级的二维材料, 但是产品的质量和尺寸难以控...
CVD可以定义为通过气相反应物之间的化学反应在受热衬底表面沉积一层固体薄膜的制备方法, 该方法适用于沉积部分绝缘材料、大多数金属材料和金属合金材料. 传统CVD反应过程如图2所示, 当温度升高至反应温度时, 气化的反应物被载流气体输运至衬底表面发生化学反应, 进而分解形成结构更接近最终产物的团簇结构, 团簇结构在衬底...