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光刻胶旋涂时以下哪些因素与形成的光刻胶薄膜厚度影响较大
光刻胶旋涂时以下哪些因素与形成的光刻胶薄膜厚度影响较大
2025-02-19 07:48:44
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光刻胶旋涂时以下哪些因素与形成的光刻胶薄膜厚度影响较大
6、 光刻胶旋涂后的厚度和涂胶机的转速以及光刻胶粘度有什么关系
什么是光刻胶 光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求
2、简述什么是光刻胶 根据溶解性的变化 光刻胶分为哪几类 他们的原理和特点是什么
光刻胶对大部分 敏感而发生变性 但对 不敏感
若使用正胶+负显影进行光刻工艺 曝光的区域的光刻胶会被显影掉
光刻时使用的光刻胶在短波长光照射下会曝光 因此一般选用 作为照明光源 而不使用
曝光前 光刻胶对于特定显影液来说是可溶的 曝光后 不能溶解于此显影液中 此光刻胶为
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