二氧化硅,铝,硅和光刻胶刻蚀分别使用什么化学气体来实现干法刻蚀?相关知识点: 试题来源: 解析 刻蚀硅采用的化学气体为CF4/O2和CL2.刻蚀二氧化硅采用的化学气体为CHF3. 刻蚀铝采用的化学气体为CL2和BCL2.刻蚀光刻胶采用的化学气体为O2. 反馈 收藏
+sR为刻蚀气体,在一定压力下使用RIE刻蚀机刻蚀光刻胶。通过改变功率、o:流量和sF6流量,研究以上因素的改变对光刻胶灰化速率的影响。实验结果表明:单组分o:存在下,02流量的增加不会影响光刻胶的灰化速率。设备Plasma功率以及气体比率变化对灰化率有显著影响,并通过光谱分析对光刻胶的灰化反应机理进行了初步研究。关键...
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