摘要 本发明公开了一种基于紫外光刻技术的布基微流控芯片制备方法,该方法包括如下步骤:1、配制PVC光刻胶;2、布片预处理;3、设计掩膜;4、将PVC光刻胶均匀涂于布片上,经过前烘后,把布片放置于载片平台,掩膜对准,进行紫外曝光;后烘,再将涂胶布片放到丁酮中显影,再放到丙酮中漂洗,用纯净水冲洗后,用SDS溶液洗涤...
一种免光刻快速制备微流控芯片的方法,包括以下步骤: (1)激光切割胶带:根据需要选择不同层数的胶带贴在平板上,利用激光切割胶带形成具有微通道的结构; (2)制备阳模:将具有微通道结构的胶带转移至干净的基片上,然后在胶带的结构处均匀涂上正光刻胶,待光刻胶固定后移走胶带,得到正光刻胶阳模; (3)浇注pdms:将pdm...
1. T型结构法(T-junction) 此方法由Thorsen等人于2001年首先提出,是简单的一种液滴制备方法。在此结构中,连续相和分散相在T形口处汇聚,分散相逐渐进入主干道,在连续相的剪切下,最终“断裂”,形成液滴。 2. 流动汇聚法(Flow focusing) 此结构中,分散相直接进入主干道,连续相垂直于分散相从分散相两侧注入,分...
本发明公开了一种基于紫外光刻技术的布基微流控芯片制备方法,该方法包括如下步骤:1.配制PVC光刻胶;2.布片预处理;3.设计掩膜;4.将PVC光刻胶均匀涂于布片上,经过前烘后,把布片放置于载片平台,掩膜对准,进行紫外曝光;后烘,再将涂胶布片放到丁酮中显影,再放到丙酮中漂洗,用纯净水冲洗后,用SDS溶液洗涤,再用...
本发明公开了一种基于紫外光刻技术的布基微流控芯片制备方法,该方法包括如下步骤:1,配制PVC光刻胶;2,布片预处理;3,设计掩膜;4,将PVC光刻胶均匀涂于布片上,经过前烘后,把布片放置于载片平台,掩膜对准,进行紫外曝光;后烘,再将涂胶布片放到丁酮中显影,再放到丙酮中漂洗,用纯净水冲洗后,用SDS溶液洗涤,再用...
本发明公开了一种免光刻快速制备微流控芯片的方法,包括以下步骤:利用激光切割胶带形成具有微通道的结构,将具有微通道结构的胶带转移至干净的基片;然后在胶带的微结构处均匀涂上正光刻胶,待光刻胶固定后移走胶带,得到正光刻胶阳模;再将PDMS和固化剂均匀混合后浇注到正光刻胶阳模上,加热使PDMS固化后将制得的PDMS...