光刻机常用的三种曝光方式分别是直接曝光、间接曝光和投影曝光。 一、直接曝光 直接曝光是光刻技术中最早的一种方式,也是较为简单和直接的曝光方式。在直接曝光中,掩膜和光阻直接接触,采用紫外线光源进行曝光,这种方式的缺点是掩膜与光阻之间必须有接触,所以对掩模的贴附要求较高,且容易产生掩模和光刻胶...
光刻机曝光方式主要分为以下两类: 1. 接触式曝光:在这种曝光方式中,光刻胶直接与光刻掩模接触,通过掩模图形的透光部分将光刻胶暴露在光线下。接触式曝光具有较高的分辨率,但容易造成光刻胶污染和掩模磨损。 2. 非接触式曝光:非接触式曝光包括接近式曝光、投影式曝光等。在这种方式中,光刻胶与光刻掩模之间保持...
一、正常曝光 正常曝光是最常用的曝光方式,也是最简单的一种方式。在这种方式下,曝光时刻控制系统会让掩模上的特定区域透过光线照射到光刻胶层上,使其暴露,从而形成对应的图形。正常曝光适用于制造P型和N型区域的电路板。 二、反向曝光 反向曝光是一种与正常曝光相反的方式。在这种方式下,光刻胶层上的特...
百度试题 题目光刻机有哪几种曝光方式? A.接触式曝光B.非接触式曝光C.投影式曝光D.直接曝光相关知识点: 试题来源: 解析 ABC 反馈 收藏
光刻机的曝光方式主要有三种,分别是接触式曝光、非接触式曝光和投影式曝光。 接触式曝光就是将掩膜与还没加工基片的光胶层直接接触并进行的曝光; 非接触式曝光是指掩膜和基片的光胶层不直接接触来实现图形复印的曝光; 投影式曝光是指掩膜与基片不直接接触,但用投影仪分方式来实现图形转移。
解析:根据曝光方式不同光学光刻机主要分为三种:接触式,接近式,投影式。接触式:接触式光刻机是最简单的光刻机,曝光时,掩模压在涂有光刻胶的晶圆片上。主要优点:设备简单,分辨率高,没有衍射效应主要缺点:掩模版与涂有光刻胶的晶圆片直接接触,每次接触都会在晶圆片和掩模版上产生缺陷,降低掩模版使用寿命,成品率...
非接触式曝光是指掩膜和基片上的光胶层不直接接触实现图形复印曝光的方法。 优点:克服接触式曝光容易损坏掩膜和基片的缺点。 缺点:由于光的衍射效应会使图形的分辨率下降。 投影式曝光 投影式曝光是指掩膜与基片并不直接接触,而是以类似投影仪的投影方式来进行图形的转移。
A、确定图案的精确形状和尺寸; B、步进曝光机一次就可以完成曝光; C、使受光照射区域的光刻胶膜发生化学反应形成潜影; D、需要进行准确对版后再曝光,才能保证各次光刻的套准精度。 点击查看答案 第9题 汽轮机有哪几种停机方式? 点击查看答案 第10题 直流电动机有哪几种起动方式? 点击查看答案 账号...
A、接触式光刻机 B、接近式光刻机 C、投影式光刻机 你可能感兴趣的试题 多项选择题 观众研究的目的是帮助博物馆.美术馆等机构( ) A、收集确实证据以了解这些机构如何符合其核心目的和目标 B、探究这些机构之于观众的管理 C、继续发展与其观众的关系 ...